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原文传递 一种频率可控的自维持高速射流激励器
专利名称: 一种频率可控的自维持高速射流激励器
摘要: 本发明提供一种频率可控的自维持高速射流激励器,包括集气系统与射流系统,射流系统包括:壳体,内设有射流腔,一端设有若干高压气体入口,另一端设有若干射流喷射孔;旋转轴,首端位于壳体外,尾端贯穿射流腔后与壳体转动相连;叶轮,包括固定相连的旋转接头与若干叶片,旋转接头套设在旋转轴上,叶轮在高压气体的驱动下转动;阻挡块,设在每一叶片上,一端与对应叶片固定相连,另一端抵接在壳体上对应射流喷射孔一端的内壁上,阻挡块在转动过程中对射流喷射孔进行周期性的阻挡;阻尼装置,设在旋转轴的首端,用于控制旋转轴的转速。能够有效的在高空环境下工作,并且具有更宽的频率调节范围与更高的能量利用率。本发明应用于流体力学领域。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 湖南;43
申请人: 中国人民解放军国防科技大学
发明人: 彭文强;罗振兵;夏智勋;王林;周岩;程盼
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810816351.8
公开号: CN108860663A
代理机构: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225
代理人: 董惠文
分类号: B64G1/26(2006.01)I;B;B64;B64G;B64G1;B64G1/26
申请人地址: 410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号
主权项: 1.一种频率可控的自维持高速射流激励器,包括:集气系统,布设在高速来流的高压区域,用于收集高压气体;射流系统,布设在飞行器流场控制区域,向主流场注入高能射流用于对主流场进行调节控制;其特征在于,射流系统包括:壳体,所述壳体内设有射流腔,壳体的一端设有若干高压气体入口,另一端设有若干射流喷射孔,所述高压气体入口与所述射流喷射孔一一对应以用于提升射流效果,高压气体入口与射流喷射孔均与射流腔连通,每一高压气体入口均与集气系统连通;旋转轴,首端位于壳体外,尾端沿高压气体入口到射流喷射孔的方向贯穿射流腔后与壳体转动相连;叶轮,包括固定相连的旋转接头与若干叶片,旋转接头固定套设在旋转轴上,叶轮在高压气体的驱动下转动;阻挡块,设在每一叶片上,阻挡块的一端与对应叶片固定相连,另一端抵接在壳体上对应射流喷射孔一端的内壁上,阻挡块在转动过程中对射流喷射孔进行周期性的阻挡;阻尼装置,设在旋转轴的首端且位于壳体外,用于控制旋转轴的转速。
所属类别: 发明专利
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