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原文传递 一种测定二氧化钍中金属杂质含量的方法
专利名称: 一种测定二氧化钍中金属杂质含量的方法
摘要: 本发明提供的一种测定二氧化钍中金属杂质含量的方法包括以下步骤:提供待测溶液、空白溶液和标准溶液;待测溶液通过微波消解法消解待测样品制得,含二氧化钍基体及金属杂质;空白溶液通过微波消解不含待测样品的空白样制得;标准溶液含二氧化钍基体及已知浓度的金属杂质,标准溶液中二氧化钍基体的浓度与待测溶液中二氧化钍基体的浓度相同;将标准溶液、空白溶液和待测溶液引入电感耦合等离子体质谱仪,得到空白溶液及待测溶液中的金属杂质浓度,根据待测样品质量换算得待测样品中的金属杂质的含量。采用本方法操作简单避免了操作繁琐、稳定性、重现性差等问题。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 上海;31
申请人: 中国科学院上海应用物理研究所
发明人: 丛海霞;崔荣荣;罗艳;赵中奇;何淑华;周伟;窦强;张岚;李晴暖
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810581589.7
公开号: CN108871927A
代理机构: 上海智信专利代理有限公司 31002
代理人: 邓琪
分类号: G01N1/44(2006.01)I;G01N27/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1;G01N27;G01N1/44;G01N27/64
申请人地址: 201800 上海市嘉定区嘉罗公路2019号
主权项: 1.一种测定二氧化钍中金属杂质含量的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:S1,提供待测溶液、空白溶液和标准溶液;所述待测溶液通过微波消解法消解待测样品制得,含二氧化钍基体及金属杂质;所述空白溶液通过微波消解不含待测样品的空白样制得;所述标准溶液含二氧化钍基体及已知浓度的金属杂质,且所述标准溶液中二氧化钍基体的浓度与待测溶液中二氧化钍基体的浓度相同;S2,将不同浓度的标准溶液引入电感耦合等离子体质谱仪,测定标准溶液中的金属杂质的响应值,绘制金属杂质的响应值关于金属杂质浓度的标准曲线;然后将空白溶液及待测溶液引入电感耦合等离子体质谱仪,分别得到空白溶液及待测溶液中的金属杂质的响应值,代入标准曲线计算,分别得到空白溶液及待测溶液中的金属杂质浓度,进而根据待测样品质量换算得待测样品中的金属杂质的含量。
所属类别: 发明专利
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