专利名称: | 高纯铅中微量金属杂质的ICP-MS测定方法 |
摘要: | 本发明涉及的高纯铅中微量金属杂质的ICP-MS测定方法,采用高纯硝酸溶 解样品,电解法去除样品中的铅;利用电感耦合等离子体质谱仪采用跳峰方式 对空白、工作曲线标准溶液以及待测样品元素扫描测试,得到待测元素的含量。 本发明涉及的高纯铅中微量金属杂质的ICP-MS测定方法操作方便,可有效消除 总固含量过高造成的基体效应,避免样品制备过程中的污染,大大降低记忆效 应,显著提高测试精度。本发明涉及的高纯铅中微量金属杂质的ICP-MS测定方 法,适用于多种微量金属杂质含量的分析测试。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 山东;37 |
申请人: | 中国兵器工业集团第五三研究所 |
发明人: | 李本涛;冯典英;赵 华;黄 辉 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-02-26T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200910014394.5 |
公开号: | CN101551357 |
代理机构: | 济南舜源专利事务所有限公司 |
代理人: | 苗 峻 |
分类号: | G01N27/68(2006.01)I |
申请人地址: | 250031山东省济南市天桥区田家庄东路3号 |
主权项: | 1、一种高纯铅中微量金属杂质的ICP-MS测定方法,包括样品处理和测试两部 分,具体过程包括: a.样品处理:将精确定量的样品溶解在1∶10~20的高纯稀硝酸中;以铂 网为电极,在1.0A~1.2A条件下对样品电解2h/g~3h/g,对电解液定容后得 到待测样品试液; b.空白制备∶将与a过程等量的1∶10~20高纯稀硝酸采用与a相同的条 件处理,制备空白; c.工作曲线标准溶液制备:采用与待测组分对应各元素的标准储备液配制 具有梯度浓度的标准溶液,溶液浓度范围0.2~2.0μg/L; d.测试与数据处理:采用跳峰方式对空白、工作曲线标准溶液以及待测样 品元素扫描测试,得到待测元素的含量。 |
所属类别: | 发明专利 |