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使用混合模式光源来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法
| 专利名称： | 使用混合模式光源来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法 |
| 摘要： | 本申请公开了使用混合模式光源进行改进的聚焦跟踪的系统和方法。本文公开的系统和方法包括成像系统，其可包括：激光二极管光源；物镜，其被定位成将来自光源的聚焦跟踪光束引导到样品容器中的定位上并且接收从样品反射的聚焦跟踪光束；以及图像传感器，其包括多个像素定位以接收从样品容器中的定位反射的聚焦跟踪光束，其中反射聚焦跟踪光束在图像传感器上产生光斑。一些示例还可以包括激光二极管光源，该激光二极管光源可以在高于对于在放大式自发辐射(“ASE”)模式下的操作的功率水平但低于对于单模操作的功率水平的功率水平下操作。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 发明人： | 达尼洛·孔代洛;西蒙·普林斯;大卫·哈吉斯;杰弗里·本迪克;克里斯多佛·西格尔 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810187497.0 |
| 公开号： | CN108572140A |
| 代理机构： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
| 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 分类号： | G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01 |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 1.一种成像系统，包括：激光二极管光源；物镜，其被定位成将来自所述光源的聚焦跟踪光束引导到样品容器中的定位上并且接收从所述样品反射的所述聚焦跟踪光束；以及图像传感器，其包括多个像素定位以接收从所述样品容器中的定位反射的聚焦跟踪光束，其中反射聚焦跟踪光束在所述图像传感器上产生光斑；其中，所述激光二极管光源在高于对于在放大式自发辐射(“ASE”)模式下的操作的功率水平但低于对于单模操作的功率水平的功率水平下操作。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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