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用于使用光源配置来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法
| 专利名称： | 用于使用光源配置来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法 |
| 摘要： | 本申请公开了用于使用光源配置来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法。在本文提供了成像系统，其包括：光源；第一聚焦透镜，其定位成将来自光源的光束聚焦到在沿着成像系统中的光束的光路的预定定位处的光束腰；光束分离器，其相对于第一聚焦透镜来定位以接收来自第一聚焦透镜的光束并创建第一和第二光束；第二聚焦透镜，其定位成接收由光束分离器输出的第一和第二光束以将所接收的第一和第二光束聚焦到尺寸被设计成落在待成像的样品内的光斑，并且还定位成接收从样品反射的第一和第二光束；图像传感器，其定位成接收从样品反射的光束；以及屋脊棱镜，其定位于在第二聚焦透镜和图像传感器之间的光路中。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 发明人： | 达尼洛·孔代洛;西蒙·普林斯;约翰·奥肖内西;克里斯多佛·西格尔;阿什肯·阿里安普尔 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810187246.2 |
| 公开号： | CN108572139A |
| 代理机构： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
| 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 分类号： | G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01 |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 1.一种成像系统，包括：光源；第一聚焦透镜，其定位成将来自所述光源的光束聚焦到在沿着所述成像系统中的所述光束的光路的预定定位处的光束腰；光束分离器，其相对于所述第一聚焦透镜来定位以接收来自所述第一聚焦透镜的所述光束并创建第一光束和第二光束；第二聚焦透镜，其定位成接收由所述光束分离器输出的所述第一光束和第二光束以将所接收的第一光束和第二光束聚焦到尺寸被设计成落在待成像的样品内的光斑，并且还定位成接收从所述样品反射的第一光束和第二光束；图像传感器，其定位成接收从所述样品反射的光束；以及屋脊棱镜，其定位于在所述第二聚焦透镜和所述图像传感器之间的所述光路中，所述屋脊棱镜被设计尺寸以使从所述样品反射的所述第一光束和第二光束会聚到所述图像传感器上。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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