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粗糙化的铜表面的表面积测定方法
| 专利名称： | 粗糙化的铜表面的表面积测定方法 |
| 摘要： | 提供：简便地且以高精度测定蚀刻粗糙化的铜表面的表面积的方法。上述课题可以通过一种粗糙化的铜表面的表面积的测定方法来解决，所述方法包括如下工序：第1工序，在恒定电位下去除在金属铜的表面生成的自然氧化铜；第2工序，在恒定电位下在去除了前述自然氧化铜的金属铜的表面形成异种金属的单分子层；和，第3工序，在恒定电位下将前述异种金属的单分子层溶解，算出为了溶解前述异种金属的单分子层而使用的阳极电量，从而求出粗糙化的铜表面的表面积。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 发明人： | 平贺智子;池田和彦 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201680031853.9 |
| 公开号： | CN107615055A |
| 代理机构： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
| 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 分类号： | G01N27/48(2006.01)I;G01N27/42(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N27;G01N27/48;G01N27/42 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 一种粗糙化的铜表面的表面积的测定方法，其包括如下工序：第1工序，在恒定电位下去除在金属铜的表面生成的自然氧化铜；第2工序，在恒定电位下在去除了所述自然氧化铜的金属铜的表面形成异种金属的单分子层；和，第3工序，在恒定电位下将所述异种金属的单分子层溶解，算出为了溶解所述异种金属的单分子层而使用的阳极电量，从而求出粗糙化的铜表面的表面积。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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