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基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法
| 专利名称： | 基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法。基准器构成为，具备具有槽部的非透光性的第一块体、以及层叠于所述第一块体的透光性的第二块体，由分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光，由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 日东电工株式会社 |
| 发明人： | 道平创;近藤信 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201710803795.3 |
| 公开号： | CN108072666A |
| 代理机构： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
| 代理人： | 刘新宇 |
| 分类号： | G01N21/93(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/93 |
| 申请人地址： | 日本大阪府 |
| 主权项： | 一种基准器，用于保证测量对象物的厚度的分光干涉式测量装置的测量值具有规定范围内的精度，所述基准器构成为，具备：非透光性的第一块体；以及透光性的第二块体，其层叠于所述第一块体，其中，所述第一块体在靠所述第二块体侧的面具有槽部，由所述分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光，由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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