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气敏性能测试和光催化降解评价联用装置
| 专利名称： | 气敏性能测试和光催化降解评价联用装置 |
| 摘要： | 本发明涉及一种气敏性能测试和光催化降解评价联用装置，气体容纳腔顶部设置一光源，底座内部设有一输气通道，输气通道连接至少一个设置于气体容纳腔底部的输气口，输气口下方的输气通道上设有混气部件，气体容纳腔内的底部设有至少一个气敏元件插槽，气敏元件插槽中插入有气敏元件，气敏元件插槽上方且在气敏元件插槽与光源之间设有遮光板，遮光板上方，且正对光源设置光催化部件；底座内装有与光源、气敏元件电连接的控制器，控制器在底座上设置有交互界面，用于向控制器输入信号；控制器根据交互界面的输入信号来控制光源的启闭以及控制所述气敏元件与外界电路的连通或关断，实现有机污染物浓度和光降解性能的同步监测和评价，并且可选择特定测试模式。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 上海理工大学 |
| 发明人： | 王丁;王现英;李慧珺;杨俊和;殷悦;俞嘉杰;芮宗源 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810174836.1 |
| 公开号： | CN108414671A |
| 代理机构： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 |
| 代理人： | 吴宝根;王晶 |
| 分类号： | G01N31/10(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N31;G01N31/10 |
| 申请人地址： | 200093 上海市杨浦区军工路516号 |
| 主权项： | 1.一种气敏性能测试和光催化降解评价联用装置，包括气体容纳腔以及位于所述气体容纳腔底部的底座，其特征在于：所述气体容纳腔顶部设置一光源，所述底座内部设有一输气通道，所述输气通道连接至少一个设置于所述气体容纳腔底部的输气口，使得气体能够进入气体容纳腔内；所述输气口下方的所述输气通道上设有混气部件，混气部件用于对输气通道内的且即将进入气体容纳腔的气体进行充分混合；所述气体容纳腔内的底部设有至少一个气敏元件插槽，气敏元件插槽中插入有气敏元件，用于探测气体容纳腔内的气体；所述气敏元件插槽上方且在气敏元件插槽与所述光源之间设有遮光板，遮光板用于遮挡光源发射的光线入射到气敏元件插槽中的气敏元件上；所述遮光板上方，且正对所述光源设置光催化部件；所述底座内装有控制器，所述控制器与所述光源、所述气敏元件电连接，控制器在底座上设置有交互界面，用于向控制器输入信号；控制器根据交互界面的输入信号来控制光源的启闭以及控制所述气敏元件与外界电路的连通或关断。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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