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电解抛光——X射线应力分析测试平台
| 专利名称： | 电解抛光——X射线应力分析测试平台 |
| 摘要： | 电解抛光——X射线应力分析测试平台，属于材料焊接残余应力无损测试领域。测试平台主要包含支撑结构、测试台结构和夹持结构三个部分，各个结构可以进行调节从而能够适应不同尺寸的待测结构。另外针对焊接残余应力分布不均匀的特点，加入旋转轴的设计来满足测量沿不同方向的应力，该实验平台结构设计简单灵活，便于制作和组装。该平台同时能够装置电解抛光设备以及X射线应力测试设备，将两者的功能合而为一，在满足X射线应力测试标准的前提下，测量精确度和效率都相比用分别操作电解抛光和X射线应力测试有明显提高，具有重要的实际意义。 |
| 专利类型： | 实用新型 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 北京工业大学 |
| 发明人： | 李晓延;孙鲁阳;申博文;吴奇 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201720561530.2 |
| 公开号： | CN206906117U |
| 代理机构： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 |
| 代理人： | 张立改 |
| 分类号： | G01N1/32(2006.01)I;G01N23/207(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1;G01N23;G01N1/32;G01N23/207 |
| 申请人地址： | 100124 北京市朝阳区平乐园100号 |
| 主权项： | 电解抛光——X射线应力分析测试平台，其特征在于，由三个主要部分组成：平台的支撑结构、旋转测试台结构、电解抛光支架结构；平台支撑结构起到固定平台以及调节高度的作用；即为底层的底座，包括四个支撑块(6)和长方体支撑体(7)，长方体支撑体为中空的圆柱腔体；四个支撑块位于长方体支撑体的下底面用于支撑长方体支撑体，通过螺栓连接并可调节长方体支撑体的支撑高度；长方体支撑体的圆柱腔体轴垂直四个支撑块；旋转测试台结构包括平台旋转轴(9)、测试台(10)以及可供安装电解抛光支架轨道(5)三部分，是整个测试平台的核心部分，通过转轴来研究测试被测点在横向和纵向的残余应力，并通过六角螺栓固定旋转后的转轴防止平台晃动造成测量误差；平台旋转轴(9)为一圆柱体，平台旋转轴(9)位于长方体支撑体的圆柱腔体内，平台旋转轴(9)相对于长方体支撑体可旋转和固定；平台旋转轴(9)的上圆柱端面固定测试台(10)，测试台(10)为以长方形板，测试台(10)台面的一侧或相对的两侧设有电解抛光支架滑动轨道(5)；电解抛光支架的滑动轨道截面为工型结构的长凸起；电解抛光支架轨道上配套有电解抛光支架结构，电解抛光支架结构包括纵向伸缩杆(11)、横向伸缩杆(12)、圆形夹紧器(13)；纵向伸缩杆(11)的下端面设有与电解抛光支架滑动轨道相匹配的凹槽(8)；纵向伸缩杆(11)的上部还安装有一横向伸缩杆(12)，横向伸缩杆(12)的轴向顶端固定有圆形夹紧器(13)；测试台(10)上还设有夹紧器(3)。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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