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反射率检测方法和反射率检测装置
| 专利名称： | 反射率检测方法和反射率检测装置 |
| 摘要： | 提供反射率检测方法和反射率检测装置，不实际对被加工物照射波长与想要检测反射率的波长相同的激光光线便能够计算假定对被加工物照射被检测波长的激光光线的情况下的反射率。反射率检测方法对被加工物照射激光光线而检测反射率，该方法包含：第一检测工序，按照光量H0对被加工物照射比想要检测反射率的被检测波长X短的第一波长X1的激光光线并检测所反射的返回光的光量H1；第二检测工序，按照光量H0对被加工物照射比该被检测波长X长的第二波长X2的激光光线并检测所反射的返回光的光量H2；和反射率计算工序，将通过式H＝H1+(H2‑H1)×(X‑X1)/(X2‑X1)计算出的H作为对被加工物照射了被检测波长X的情况下的返回光的光量，通过H/H0来计算该情况下的反射率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 株式会社迪思科 |
| 发明人： | 泽边大树 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810478064.0 |
| 公开号： | CN108931501A |
| 代理机构： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
| 代理人： | 于靖帅;乔婉 |
| 分类号： | G01N21/47(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/47;G01N21/01 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 1.一种反射率检测方法，对被加工物照射激光光线而检测反射率，其中，该反射率检测方法具有如下的工序：第一检测工序，按照光量H0对被加工物照射比想要检测反射率的被检测波长X短的第一波长X1的激光光线而检测所反射的返回光的光量H1；第二检测工序，按照光量H0对被加工物照射比该被检测波长X长的第二波长X2的激光光线而检测所反射的返回光的光量H2；以及反射率计算工序，将通过下式H＝H1+(H2‑H1)×(X‑X1)/(X2‑X1)计算出的H作为对该被加工物照射了该被检测波长X的情况下的返回光的光量，通过H/H0来计算照射了该被检测波长X的情况下的反射率。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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