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一种光致发光光谱处理的方法和装置
| 专利名称： | 一种光致发光光谱处理的方法和装置 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光致发光光谱处理的方法和装置，属于半导体技术领域。包括：获取待测试外延片的光致发光光谱；获取待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值；根据待测试外延片的光致发光发光谱中各个像素的参数值，确定待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型。本发明通过在获取到待测试外延片的光致发光光谱之后，获取待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值，并根据待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值，确定待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型，由设备自主完成对外延片的光致发光光谱的分析，有效避免人为分析所导致的效率低、准确性和稳定性差的问题，提高了分析效率以及分析结果的准确性和稳定性。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 浙江;33 |
| 申请人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 发明人： | 李昱桦;乔楠;刘春杨;胡加辉;李鹏 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810601407.8 |
| 公开号： | CN108956550A |
| 代理机构： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
| 代理人： | 徐立 |
| 分类号： | G01N21/63(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/63 |
| 申请人地址： | 322000 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号 |
| 主权项： | 1.一种光致发光光谱处理的方法，其特征在于，所述方法包括：获取待测试外延片的光致发光光谱；获取所述待测试外延片的光致发光光谱中各个像素的参数值；根据所述待测试外延片的光致发光发光谱中各个像素的参数值，确定所述待测试外延片是否存在缺陷以及缺陷的类型。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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