专利名称: |
清洗带供给装置及系统 |
摘要: |
本实用新型公开了一种清洗带供给装置及系统,属于显示装置制造领域。该装置包括:至少两个供料盘、传递机构、连接机构和供给本体,至少两个供料盘、传递机构和连接机构均设置在供给本体上;每个供料盘上盘绕有清洗带,传递机构用于将设置在传递机构上的清洗带传递至目标位置;连接机构用于在检测到当前设置在传递机构上的第一清洗带的剩余量为预设剩余量时,将第一清洗带和另一供料盘上的第二清洗带连接在一起,并对第一清洗带进行切割,以使第二清洗带由传递机构传递至目标位置。本实用新型解决了相关技术中需中断当前操作以更换供料盘,清洗面板效率较低的问题,提高了清洗效率。本实用新型用于面板的清洗。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
发明人: |
冯志刚;张维;马齐林;罗智捷;徐超;李宗鑫;罗林科 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201820003578.6 |
公开号: |
CN208008128U |
代理机构: |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人: |
滕一斌 |
分类号: |
B65H19/12(2006.01)I;B65H19/20(2006.01)I;B65H19/18(2006.01)I;B;B65;B65H;B65H19;B65H19/12;B65H19/20;B65H19/18 |
申请人地址: |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
主权项: |
1.一种清洗带供给装置,其特征在于,所述装置包括:至少两个供料盘、传递机构、连接机构和供给本体,所述至少两个供料盘、所述传递机构和所述连接机构均设置在所述供给本体上;每个所述供料盘上盘绕有清洗带,所述传递机构用于将设置在所述传递机构上的清洗带传递至目标位置;所述连接机构用于在检测到当前设置在所述传递机构上的第一清洗带的剩余量为预设剩余量时,将所述第一清洗带和另一供料盘上的第二清洗带连接在一起,并对所述第一清洗带进行切割,以使所述第二清洗带由所述传递机构传递至所述目标位置。 |
所属类别: |
实用新型 |