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原文传递 4H-SiC在制备高压压砧中的应用
专利名称: 4H-SiC在制备高压压砧中的应用
摘要: 本发明公开了一种4H‑SiC在制备高压压砧中的应用。本发明将4H‑SiC用于制备高压压砧,进而用于高压下红外吸收光谱分析、高压下紫外‑可见吸收光谱分析和高压下拉曼光谱分析。和现有技术相比,本发明的有益效果在于:利用光谱学方法表征材料在高压环境下的结构、性质时,使用4H‑SiC压砧可以弥补金刚石压砧的不足,甚至远远优于金刚石压砧。4H‑SiC作为高压加载材料一方面大大节约天然资源;另一方面与天然金刚石压砧相比较,使用廉价的人造4H‑SiC制作压砧可以大大促进高压科学研究广泛开展。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 北京;11
申请人: 北京高压科学研究中心
发明人: 王霖;张金波
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810547469.5
公开号: CN108760633A
代理机构: 上海正旦专利代理有限公司 31200
代理人: 王洁平
分类号: G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01
申请人地址: 100094 北京市海淀区西北旺东路10号C-106
主权项: 1.一种4H‑SiC在制备高压压砧中的应用。
所属类别: 发明专利
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