原文传递
一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置及观测方法
| 专利名称： | 一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置及观测方法 |
| 摘要： | 本发明属于精密抛光技术领域，具体涉及一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，包括框架体以及设置在框架体上的CCD相机位置调节组件、激光器位置调节组件和抛光组件，CCD相机位置调节组件包括CCD相机托板、与CCD相机托板固定连接的CCD相机、驱动CCD相机托板左右移动的第一驱动机构和驱动CCD相机托板上下移动的第二驱动机构，激光器位置调节组件包括激光器托板、与激光器托板固定连接的激光器、驱动激光器托板前后移动的第三驱动机构。本发明可以精准地拍摄到非接触式两相流抛光中粒子在抛光平面内的运动状态，而且可以实现对不同大小的抛光盘和不同大小的抛光间隙的抛光加工过程中粒子的拍摄，该装置结构简单，功能容易实现，且成本经济。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 浙江;33 |
| 申请人： | 谢重;台州职业技术学院 |
| 发明人： | 谢重;姚朝霞;鲍科良;杨禹晟 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201811191247.0 |
| 公开号： | CN109100285A |
| 代理机构： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 |
| 代理人： | 杨建龙 |
| 分类号： | G01N15/10(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N15;G01N15/10 |
| 申请人地址： | 317000 浙江省台州市临海市台州府路140号 |
| 主权项： | 1.一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于包括框架体（1）以及设置在框架体（1）上的CCD相机位置调节组件、激光器位置调节组件和抛光组件，CCD相机位置调节组件包括CCD相机托板（4）、与CCD相机托板（4）固定连接的CCD相机（3）、驱动CCD相机托板（4）左右移动的第一驱动机构和驱动CCD相机托板（4）上下移动的第二驱动机构，激光器位置调节组件包括激光器托板（11）、与激光器托板（11）固定连接的激光器（22）和驱动激光器托板（11）前后移动的第三驱动机构。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
