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原文传递 基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法
专利名称: 基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法
摘要: 本发明涉及X射线荧光分析技术领域,针对现有X射线荧光测量系统及方法的测量结果易受仪器性能波动的影响,以及不适用于对以金属元素为主要成分的薄层质量厚度进行测量的不足,提供基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统及方法,其中测量系统包括X射线管、准直管、探测器、基底和控制终端,准直管的输入端与X射线管的出射口相连,输出端设置钨针孔;控制终端分别与X射线管和探测器电连接;基底表面贴放含参考元素的参考层,参考层的表面用于放置标准样品层或待测样品层;X射线管用于发射X射线,基底位于X射线的光路上;X射线通过准直管和钨针孔后垂直照射参考层;探测器用于接收X射线激发的荧光。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 陕西;61
申请人: 西北核技术研究所
发明人: 刘旭;马戈;黑东炜;夏惊涛;盛亮;裴明敬;魏福利;徐海斌;罗剑辉;唐波
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810597362.1
公开号: CN108508052A
代理机构: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211
代理人: 倪金荣
分类号: G01N23/223(2006.01)I;G01B15/02(2006.01)I;G;G01;G01N;G01B;G01N23;G01B15;G01N23/223;G01B15/02
申请人地址: 710024 陕西省西安市灞桥区平峪路28号
主权项: 1.基于参考元素的X射线荧光薄层质量厚度测量系统,其特征在于:包括X射线管(1)、准直管(2)、探测器(3)、基底和控制终端(4);准直管(2)的输入端与X射线管(1)的出射口相连,输出端设置钨针孔(22);控制终端(4)分别与X射线管(1)和探测器(3)电连接;基底表面贴放含参考元素的参考层,参考层的表面用于放置标准样品层或待测样品层;X射线管(1)用于发射X射线,基底位于X射线的光路上;X射线通过准直管(2)和钨针孔(22)后垂直照射参考层;探测器(3)用于接收X射线激发的荧光。
所属类别: 发明专利
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