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标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法
| 专利名称： | 标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法 |
| 摘要： | 本发明提供即使在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅有飞沫的情况下，也能够抑制飞沫附着于膜的缺陷位置以外的区域，从而提高产品的成品率的标注装置、缺陷检查系统以及膜制造方法。标注装置能够通过对光学膜射出液滴而标注信息，其中，标注装置具备：液滴射出装置，其具有形成有向光学膜射出液滴的射出孔的射出面；以及飞溅限制构件，其设置在射出面与光学膜之间，且能够遮挡在液滴从射出孔射出直至喷落于光学膜的过程中飞溅的飞沫，在飞溅限制构件形成有沿与射出面的法线交叉的方向延展的遮挡面。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 住友化学株式会社 |
| 发明人： | 越野哲史;井村圭太 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810169816.5 |
| 公开号： | CN108535253A |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
| 代理人： | 刘文海 |
| 分类号： | G01N21/84(2006.01)I;G01N21/88(2006.01)I;G01N21/95(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/84;G01N21/88;G01N21/95 |
| 申请人地址： | 日本国东京都 |
| 主权项： | 1.一种标注装置，其能够通过对光学膜射出液滴而标注信息，其中，所述标注装置具备：液滴射出装置，其具有形成有向所述光学膜射出所述液滴的射出孔的射出面；以及飞溅限制构件，其设置在所述射出面与所述光学膜之间，且能够遮挡在所述液滴从所述射出孔射出直至喷落于所述光学膜的过程中飞溅的飞沫，在所述飞溅限制构件形成有沿与所述射出面的法线交叉的方向延展的遮挡面。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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