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原文传递光学测定装置以及光学测定方法

专利名称：	光学测定装置以及光学测定方法
摘要：	本发明的光学测定装置包含：主体基座、可移动地结合于所述主体基座的光学基座、固定于所述光学基座的测定光学系统、以及使所述光学基座相对于所述主体基座进行相对移动的光学基座移动机构。所述光学基座移动机构使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间进行相对移动。内部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座内的内部测定对象位置的位置。外部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座外的外部测定对象位置的位置。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	大塚电子株式会社
发明人：	泉谷悠介;若山育央
专利状态：	有效
申请号：	CN201810708073.4
公开号：	CN109211741A
代理机构：	北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：	吕琳;朴秀玉
分类号：	G01N15/02(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N15
申请人地址：	日本大阪府枚方市
主权项：	1.一种光学测定装置，包含：主体基座；光学基座，能够移动地结合于所述主体基座；测定光学系统，固定于所述光学基座；以及光学基座移动机构，使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间进行相对移动，所述内部测定位置是基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座内的内部测定对象位置的位置，所述外部测定位置是基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座外的外部测定对象位置的位置。
所属类别：	发明专利