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原文传递 光学检测系统以及光学检测方法
专利名称: 光学检测系统以及光学检测方法
摘要: 本发明公开了一种光学检测系统以及光学检测方法,光学检测系统包括:入射组件,能够提供入射光线;光线调制装置,设置在入射光线的传输光路上,光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜,各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面。且光线调制装置被配置为根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度,入射光线经待测基板反射形成测试光线;以及图像采集装置,设置在测试光线的传输光路上,图像采集装置能够采集测试光线并转化成待测基板的灰度图。本发明提供的光学检测系统以及光学检测方法,能够提高光学检测系统检测的准确性。
专利类型: 发明专利
申请人: 合肥维信诺科技有限公司
发明人: 季迪
专利状态: 有效
申请日期: 1900-01-20T14:00:00+0805
发布日期: 1900-01-20T15:00:00+0805
申请号: CN202010037189.7
公开号: CN111157541A
代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人: 娜拉
分类号: G01N21/95;G01N21/01;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/95;G01N21/01
申请人地址: 230037 安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角
主权项: 1.一种光学检测系统,其特征在于,包括: 入射组件,能够提供入射光线; 光线调制装置,设置在所述入射光线的传输光路上,所述光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜,各所述微反射镜能够反射所述入射光线使得所述入射光线照射到待测基板的表面,且所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度,所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线;以及 图像采集装置,设置在所述测试光线的传输光路上,所述图像采集装置能够采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图。 2.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的折射率和/或反射率对所述微反射镜的角度进行调整,以调整所述入射光线照射到所述待测基板上的角度和/或数量。 3.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,所述图像采集装置包括镜头以及光线传感器,所述光线传感器能够采集穿过所述镜头的所述测试光线,所述光线调制装置还能够根据所述镜头的孔径和/或光阑的尺寸对所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度进行调制。 4.根据权利要求1所述的光学检测系统,其特征在于,所述光线调制装置被配置为通过调节各所述微反射镜的偏转角度调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度。 5.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统,其特征在于,所述入射组件包括: 聚光组件,设置在所述入射光线的传输光路上的,所述聚光组件能够将所述入射光线进行聚集并照射到所述光线调制装置上。 6.根据权利要求5所述的光学检测系统,其特征在于,所述入射组件还包括: 匀光组件,设置在所述入射光线的传输光路上的,所述聚光组件、所述匀光组件以及所述光线调制装置沿所述入射光线的传输方向上依次设置,所述匀光组件能够调整所述入射光线的光强并将所述入射光线均匀地照射到所述光线调制装置上。 7.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统,其特征在于,所述入射组件包括沿所述入射光线的传输方向上依次设置的第一透镜以及第二透镜,所述第一透镜包括相对设置的第一曲面和第二曲面,所述第一曲面的曲率半径2.1±5%mm,所述第二曲面的曲率半径为-18.7±5%mm,所述第一透镜的厚度为13±5%mm,所述第一透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5%mm, 所述第二透镜包括相对设置的第三曲面和第四曲面,所述第三曲面的曲率半径为88.7±5%mm,所述第四曲面的曲率半径为-88.7±5%mm,所述第二透镜的厚度为6±5%mm,所述第二透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5%mm,其中所述第一透镜与所述第二透镜之间的间距为22.3±5%mm; 优选的,所述入射组件还包括沿所述入射光线的传输方向上设置在所述第二透镜与所述光线调制装置之间的第三透镜,所述第三透镜包括相对设置的第五曲面和第六曲面,所述第五曲面的曲率半径为35.9±5%mm、所述第六曲面的曲率半径为0±5%mm,第三透镜的厚度为4±5%mm,所述第三透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为13±5%mm,所述第二透镜与所述第三透镜之间的间距为42.5±5%mm。 8.根据权利要求7所述的光学检测系统,其特征在于,所述入射组件还包括: 全反射棱镜,沿所述入射光线的传输方向上所述全反射棱镜设置在所述第三透镜与所述光线调制装置之间,所述全反射棱镜与经过所述第三透镜的所述入射光线之间的角度为47°。 9.一种光学检测方法,用于对待测基板进行检测,其特征在于,包括: 利用入射组件提供入射光线; 利用光线调制装置的各微反射镜反射所述入射光线使得所述入射光线照射到所述待测基板的表面,并根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度,所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线; 利用图像采集装置采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图。 10.根据权利要求9所述的光学检测方法,其特征在于,所述光学检测方法还包括: 根据所述待测基板的折射率和/或反射率对所述光线调制装置的各所述微反射镜的角度进行初调制,以调整所述入射光线照射到所述待测基板上的角度和/或数量。
所属类别: 发明专利
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