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基于边缘通道校正的探测器模块生产良品率改进方法
| 专利名称： | 基于边缘通道校正的探测器模块生产良品率改进方法 |
| 摘要： | 本发明请求保护一种基于边缘通道校正的CT探测器模块晶体材料的分类及良品率改进方法，其包括以下步骤：首先假设边缘像素的低性能主要来自晶体材料筛选工装器件，而在晶体模块筛选测试过程中，其他像素单元的性能始终保持相同的幅度水平，晶体模块中的所有像素在差异筛选扫描中具有一致的高低能响应均匀性(KV)和辐射损伤性能(RD)，除了低性能像素单元(lpp)；通过使用修正因子来校正目标边缘通道，所述修正因子是通过在同一层通道中减去目标边缘通道的中值数据和所选用的修正用参考通道的中值数据，来校正原始数据中的相应边缘通道。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 重庆;50 |
| 申请人： | 重庆邮电大学 |
| 发明人： | 黎淼;黄丹;丁科宇;赵明坤 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201810788454.8 |
| 公开号： | CN109298133A |
| 代理机构： | 重庆市恒信知识产权代理有限公司 50102 |
| 代理人： | 刘小红;陈栋梁 |
| 分类号： | G01N33/00(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N33 |
| 申请人地址： | 400065 重庆市南岸区南山街道崇文路2号 |
| 主权项： | 1.一种基于边缘通道校正的闪烁体分类的良品率改进方法，其特征在于，包括以下步骤：首先假设边缘像素的低性能主要来自晶体材料筛选工装器件，而在晶体模块筛选测试过程中，其他像素单元的性能始终保持相同的幅度水平，晶体模块中的所有像素在差异筛选扫描中具有一致的高低能响应均匀性(KV)和辐射损伤性能(RD)，除了低性能像素单元(lpp)；通过使用修正因子来校正目标边缘通道，所述修正因子是通过在同一层通道中减去目标边缘通道的中值数据和所选用的修正用参考通道的中值数据，来校正原始数据中的相应边缘通道，通过如下测算关系获得目标边缘通道的修正因子， |
| 所属类别： | 发明专利 |
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