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用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱
| 专利名称： | 用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱 |
| 摘要： | 本发明所提供的用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱包括：容纳所述阵列样品的密封舱主体；以及用于排除加热过程中在所述密封舱主体内生成的气相物质的除气机构；所述密封舱主体的顶部设有视窗。本发明可保持阵列样品不受污染并释放加热过程中生成的气相物质。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所;常州蓝泰光电科技有限公司 |
| 发明人： | 刘茜;余野建定;朱效庆;张睿;陈晓明;谢淑燕;徐小科;汪超越;周真真 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811348692.3 |
| 公开号： | CN109374395A |
| 代理机构： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 |
| 代理人： | 曹芳玲;姚佳雯 |
| 分类号： | G01N1/44(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1 |
| 申请人地址： | 200050 上海市长宁区定西路1295号 |
| 主权项： | 1.一种用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱，其特征在于，包括：容纳所述阵列样品的密封舱主体；以及用于排除加热过程中在所述密封舱主体内生成的气相物质的除气机构；所述密封舱主体的顶部设有视窗。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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