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原文传递阵列样品加热激光光源单元

专利名称：	阵列样品加热激光光源单元
摘要：	本实用新型所提供的阵列样品加热激光光源单元，包括：输出激光以提供加热能量且并列或阵列排布的多个激光器。本实用新型能够实现多光束并行的激光加热，用于对阵列样品的快速定向加热。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	中国科学院上海硅酸盐研究所
发明人：	刘茜;余野建定;朱效庆;张睿;陈晓明;谢淑燕;徐小科;汪超越;周真真
专利状态：	有效
申请日期：	2018-11-13T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-13T00:00:00+0800
申请号：	CN201821865023.9
公开号：	CN209387387U
代理机构：	上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)
代理人：	曹芳玲;姚佳雯
分类号：	G01N1/44(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址：	200050 上海市长宁区定西路1295号
主权项：	1.一种阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，包括：输出激光以提供加热能量且并列或阵列排布的多个激光器；待加热样品以阵列样品形式制备或装配在基板上，所述基板上阵列样品中每个样品的间隔距离与多个激光光束的间距相匹配。 2.根据权利要求1所述的阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，还包括设于所述激光器下游以改变激光的光斑的大小的激光束斑调节单元。 3.根据权利要求2所述的阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，所述激光束斑调节单元包括与所述多个激光器分别对应的多个扩束镜。 4.根据权利要求2所述的阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，还包括将激光导向所需加热位点的激光光路调节单元。 5.根据权利要求4所述的阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，所述激光光路调节单元包括设于所述激光束斑调节单元下游的反射镜。 6.根据权利要求1所述的阵列样品加热激光光源单元，其特征在于，所述激光器为连续激光器，其能量调节范围为0.1W~150W。
所属类别：	实用新型