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原文传递 用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱
专利名称: 用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱
摘要: 本实用新型所提供的用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱包括:容纳所述阵列样品的密封舱主体;以及用于排除加热过程中在所述密封舱主体内生成的气相物质的除气机构;所述密封舱主体的顶部设有视窗。本实用新型可保持阵列样品不受污染并释放加热过程中生成的气相物质。
专利类型: 实用新型
国家地区组织代码: 上海;31
申请人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
发明人: 刘茜;余野建定;朱效庆;张睿;陈晓明;谢淑燕;徐小科;汪超越;周真真
专利状态: 有效
申请日期: 2018-11-13T00:00:00+0800
发布日期: 2019-09-13T00:00:00+0800
申请号: CN201821865021.X
公开号: CN209387386U
代理机构: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)
代理人: 曹芳玲;姚佳雯
分类号: G01N1/44(2006.01);G;G01;G01N;G01N1
申请人地址: 200050 上海市长宁区定西路1295号
主权项: 1.一种用于阵列样品激光加热系统的样品密封舱,其特征在于,包括: 容纳所述阵列样品的密封舱主体;以及 用于排除加热过程中在所述密封舱主体内生成的气相物质的除气机构; 所述密封舱主体的顶部设有视窗。 2.根据权利要求1所述的样品密封舱,其特征在于,所述视窗由激光可透射材料制成。 3.根据权利要求1所述的样品密封舱,其特征在于,所述除气机构具备与所述密封舱主体连通的除气通道以及与所述除气通道相连的真空泵。 4.根据权利要求3所述的样品密封舱,其特征在于,所述除气机构与总控单元相连,通过所述总控单元控制所述真空泵的开闭以控制所述除气机构的除气动作。 5.根据权利要求1至4中任一项所述的样品密封舱,其特征在于,待加热样品以阵列样品形式制备或装配在基板上,所述基板上阵列样品中每个样品的间隔距离与多个激光光束的间距相匹配,所述基板容纳于所述密封舱主体内。
所属类别: 实用新型
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