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一种污染颗粒观察及测试装置及分析方法
| 专利名称： | 一种污染颗粒观察及测试装置及分析方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种污染颗粒观察及测试装置及分析方法，装置包括：光学成像设备、照明设备、偏振设备、定位设备、检测设备、处理显示设备、固定设备、动力输出设备，偏振设备包括电子调整设备。照明设备、对颗粒积聚物的至少一部分进行照明，形成照明测量区域，照明测量区域内设有过滤器，偏振设备包括光学偏振光片和光学分析器，光学分析器位于反射光立体显微镜的镜筒的前端，定位设备，按照网格在颗粒积聚物的照明测量区域内移动。本发明可减少测试过程的二次污染几率，整个观察及测试过程通过自动化实现，减少测试时间，提高测量结果的可重现性以及降低人工污染几率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 阅美测量系统（上海）有限公司 |
| 发明人： | 马俊安 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201710692969.3 |
| 公开号： | CN109387460A |
| 分类号： | G01N15/00(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N15 |
| 申请人地址： | 201807 上海市嘉定区工业区城北路1355号A幢1011、1013、1015室 |
| 主权项： | 1.一种污染颗粒观察及测试装置，其特征在于，包括：光学成像设备，对分布于平面结构上的颗粒积聚物进行成像，包括反射光立体显微镜和LED环形光源，所述反射光立体显微镜配置有数码CCD摄像机，所述LED环形光源分别位于所述反射光立体显微镜的镜筒两侧；照明设备，对所述颗粒积聚物的至少一部分进行照明，形成照明测量区域，所述照明测量区域内设有过滤器；偏振设备，包括光学偏振光片和光学分析器，所述光学分析器位于所述反射光立体显微镜的镜筒的前端；定位设备，按照网格在所述颗粒积聚物的所述照明测量区域内移动；检测设备，接收并评估由每一个所述照明测量区域内的所述光学成像设备的成像数据；处理显示设备，包括PC机和显示器，所述PC机分别连接所述数码CCD摄像机和所述定位设备；固定设备，包括框架，所述框架为一侧开口的矩形框，所述LED环形光源位于所述矩形框内，所述LED环形光源发出的照明光束从所述矩形框的开口处射出；动力输出设备，包括伺服电机，所述显示器、所述PC机、所述伺服电机和所述框架依次连接；其中，所述偏振设备包括电子调整设备，所述光学偏振光片和所述光学分析器分别通过所述电子调整设备实现在一第一偏振位和一第二偏振位之间的相对位置调整，所述光学成像设备分别生成所述第一偏振位和所述第二偏振位上的所述颗粒积聚物的图像。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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