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具有偏移布局的基准的系统和方法
| 专利名称： | 具有偏移布局的基准的系统和方法 |
| 摘要： | 基准标记设置在可用于例如测序的分子分析的类型的图案化阵列上。基准可以具有增强它们在图像或检测数据中的检测、便于或改进处理、提供有用信息的编码等的配置和布局。基准的示例可以包括偏移布局，其在不同类型和方法的成像中检查基准时可以是有用的，并且可以帮助在图像数据中将阵列的区域彼此区分。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 发明人： | 约翰·S·维塞利;亚历克斯·尼米罗斯基;保罗·贝利茨;罗伯特·朗格卢瓦;M·谢恩·鲍恩;陈元权;巴拉·穆拉利·K·文卡特桑;韩辉;凯万·萨米;斯蒂芬·坦纳 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201880002673.7 |
| 公开号： | CN109416322A |
| 代理机构： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
| 代理人： | 王玮玮;郑霞 |
| 分类号： | G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 1.一种阵列，包括：载体，其具有在操作中接收生物样品的位置，所述生物样品彼此不同以在荧光成像的连续循环中不同地做出响应；以及基准特征，其在所述载体上，所述基准特征具有在所述荧光成像的连续循环中做出响应的荧光材料，其中所述基准特征设置在相对于彼此偏移的行中，其中在偏移行中，相对于垂直于第一行和相邻第二行的线，所述第一行的基准不与所述相邻第二行的基准对齐。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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