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原文传递 具有反射基准的系统和方法
专利名称: 具有反射基准的系统和方法
摘要: 基准标记设置在可用于例如测序的分子分析的类型的图案化阵列上。基准可以具有增强它们在图像或检测数据中的检测、便于或改进处理、提供有用信息的编码等的配置。基准的示例可以包括在阵列的载体上或载体中提供并且通过反射返回入射光的至少一部分的特征和材料。基准可以形成光栅或帮助图像处理、对准或阵列的处理的其他方面的其他编码配置。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 美国;US
申请人: 伊鲁米那股份有限公司
发明人: 约翰·S·维塞利;亚历克斯·尼米罗斯基;保罗·贝利茨;罗伯特·朗格卢瓦;M·谢恩·鲍恩;陈元权;巴拉·穆拉利·K·文卡特桑;韩辉;凯万·萨米;斯蒂芬·坦纳
专利状态: 有效
申请号: CN201880002674.1
公开号: CN109416323A
代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262
代理人: 胡秋玲;郑霞
分类号: G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21
申请人地址: 美国加利福尼亚州
主权项: 1.一种阵列,包括:载体,其具有在操作中接收生物样品的位置,所述生物样品彼此不同以在荧光成像的连续循环中不同地做出响应;以及基准特征,所述基准特征在所述载体中或所述载体上形成,并且光学地反射以在成像期间返回入射辐射的至少一部分,用于定位所述载体、调整所述载体的位置或配准所述载体或所述位置。
所属类别: 发明专利
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