专利名称: |
一种光散射测量系统和方法 |
摘要: |
本发明公开了一种光散射测量系统和方法,涉及光学测量技术领域。本发明的光散射测量系统包括辐射源、待测目标、探测器和控制器;所述辐射源固定设置,用于向待测目标发射入射光;所述探测器朝向待测目标,且能够在控制器控制下水平运动至指定位置,以在指定位置对待测目标的反射光进行探测;所述控制器,用于根据设置的入射角和探测角确定待测目标的运动姿态信息,根据探测角确定探测器的行进距离信息;还用于根据运动姿态信息控制待测目标调整运动姿态,并根据行进距离信息控制探测器水平运动至指定位置。本技术方案能够有效解决现有测量方案存在的测量距离过大、辐射源和探测器移动难度大等问题,尤其适用于大尺寸目标的全向光散射测量。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
北京环境特性研究所 |
发明人: |
王静;范小礼;苏必达;王广平;刘畅;邓蓉;徐颖;姚石磊 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201910007104.8 |
公开号: |
CN109490254A |
代理机构: |
北京格允知识产权代理有限公司 11609 |
代理人: |
张沫;周娇娇 |
分类号: |
G01N21/47(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
100854 北京市海淀区永定路50号 |
主权项: |
1.一种光散射测量系统,其特征在于,所述系统包括:辐射源、待测目标、探测器、控制器;所述辐射源固定设置,用于向所述待测目标发射入射光;所述探测器朝向所述待测目标,且所述探测器能够在所述控制器的控制下水平运动至指定位置,以在所述指定位置对所述待测目标的反射光进行探测;所述控制器,用于根据设置的辐射源的入射角和探测器的探测角确定待测目标的运动姿态信息,根据所述探测器的探测角确定探测器的行进距离信息;还用于根据所述运动姿态信息控制所述待测目标调整运动姿态,并根据所述探测器的行进距离信息控制所述探测器水平运动至指定位置。 |
所属类别: |
发明专利 |