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基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法
| 专利名称： | 基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法，属于工业测量技术领域。会聚偏光干涉是通过单轴晶体的会聚光束形成的，光轴与单轴晶体的晶面垂直，偏振光束射入晶体时发生双折射现象，分解为有位相差的o光和e光，带有不同位相差的偏振光经过检偏器后，具有相同振动方向和振动频率的光线之间产生干涉并形成会聚偏光干涉图形，图形中的暗十字根据透明物质旋光度的大小旋转，通过四象限探测器对暗十字定位，实现对物质旋光度的测量，暗十字旋转的方向即为旋光方向。优点在于：无运动器件、测量模式与光功率的大小无关、自动确定旋光方向、分辨率高，实用性强。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 福建;35 |
| 申请人： | 龙岩学院 |
| 发明人： | 徐启峰 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811509027.8 |
| 公开号： | CN109520935A |
| 代理机构： | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 |
| 代理人： | 王怡敏 |
| 分类号： | G01N21/23(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 364012 福建省龙岩市新罗区东肖北路1号 |
| 主权项： | 1.一种基于会聚偏光干涉实现的旋光度测量方法，其特征在于：会聚偏光干涉是通过单轴晶体的会聚光束形成的，光轴与单轴晶体的晶面垂直，偏振光束射入晶体时发生双折射现象，分解为有位相差的o光和e光，带有不同位相差的偏振光经过检偏器后，具有相同振动方向和振动频率的光线之间产生干涉并形成会聚偏光干涉图形，图形中的暗十字根据透明物质旋光度的大小旋转，通过四象限探测器对暗十字定位，实现对物质旋光度的测量，暗十字旋转的方向即为旋光方向。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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