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新建地下室与既有地铁站的短地下通道结构及其施工方法
| 专利名称： | 新建地下室与既有地铁站的短地下通道结构及其施工方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种新建地下室与既有地铁站连接的短地下通道结构，该结构包括若干水平梁和两个圈梁，水平梁沿地下通道开挖方向延伸并均匀分布于开挖断面的上侧和左右两侧，圈梁分别位于水平梁两端的断面上。本发明进一步提供一种新建地下室与既有地铁站短地下通道结构的施工方法。本发明解决了新建地下室与既有地铁站的连接问题，施工方法属于暗挖法，避免明挖施工可能带来的交通堵塞、土方量巨大和噪音大等系列问题，为工程施工提供更有保障的工作面，有效增强隧道的稳定性。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 云南;53 |
| 申请人： | 云南省建设投资控股集团有限公司;云南建投第三建设有限公司 |
| 发明人： | 王长录;王剑非;李振雄;许艳苗;何毅;吴勇;彭云;姚继红;李文艳;沈雁波;刘轩;周麟;王晓燕;雷春燕;桂跃 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201910058091.7 |
| 公开号： | CN109518722A |
| 代理机构： | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 |
| 代理人： | 赛晓刚 |
| 分类号： | E02D29/045(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D29 |
| 申请人地址： | 650501 云南省昆明市经开区信息产业基地林溪路188号建工发展大厦826室 |
| 主权项： | 1.一种新建地下室与既有地铁站的短地下通道结构，其特征在于，该结构包括若干水平梁和两个圈梁，所述水平梁沿地下通道开挖方向延伸并均匀分布于开挖断面的上侧和左右两侧，所述圈梁分别位于水平梁两端的断面上。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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