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一种大口径超精密表面的暗场缺陷检测装置
| 专利名称： | 一种大口径超精密表面的暗场缺陷检测装置 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种大口径超精密表面的暗场缺陷检测装置，解决了现有暗场成像法存在效率低、无法自动测量整体表面的缺陷的问题。本实用新型的装置包括光源，样品固定架和成像显微镜，所述成像显微镜位于样品固定架上方且与待测样品的待测表面垂直设置，样品固定架和成像显微镜之间设置有顶端开口的穹顶罩，所述光源固定在穹顶罩内侧壁上，光源发出的照明光倾斜照射到待测样品上，且待测样品上的主反射光反射到穹顶罩外侧，待测样品上的散射光经过穹顶罩的顶端开口进入到成像显微镜内。本实用新型具有结构简单、图像对比度高、全场自动化测量、材料种类适应性广等优点。 |
| 专利类型： | 实用新型 |
| 国家地区组织代码： | 四川;51 |
| 申请人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 发明人： | 李璐璐;刘乾;黄文 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201821381300.9 |
| 公开号： | CN208672536U |
| 代理机构： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 |
| 代理人： | 廖慧敏 |
| 分类号： | G01N21/88(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 621000 四川省绵阳市绵山路64号 |
| 主权项： | 1.一种大口径超精密表面的暗场缺陷检测装置，包括光源(1)，用于放置待测样品(5)的样品固定架和成像显微镜(3)，其特征在于，所述成像显微镜(3)位于样品固定架上方且与待测样品(5)的待测表面垂直设置，样品固定架和成像显微镜(3)之间设置有顶端开口的穹顶罩(6)，所述光源(1)固定在穹顶罩(6)内侧壁上，光源(1)发出的照明光(7)倾斜照射到待测样品(5)上，且待测样品(5)上的主反射光(8)反射到穹顶罩(6)外侧，待测样品(5)上的散射光经过穹顶罩(6)的顶端开口进入到成像显微镜(3)内。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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