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原文传递用于图案化晶片特性化的混合度量

专利名称：	用于图案化晶片特性化的混合度量
摘要：	本发明呈现用于评估图案化结构的几何特性的方法及系统。更特定来说，根据混合度量方法通过两个或两个以上度量系统测量由一或多个图案化工艺产生的几何结构。将来自一个度量系统的测量结果传送到至少一个其它度量系统以增大接收系统的测量性能。类似地，将来自所述接收度量系统的测量结果传送回到发送度量系统以增大所述发送系统的测量性能。以此方式，基于从其它协作度量系统接收的测量结果来改进从每一度量系统获得的测量结果。在一些实例中，扩展度量能力以测量先前无法通过独立操作的每一度量系统测量的所关注参数。在其它实例中，改进测量敏感度且减小参数相关性。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	科磊股份有限公司
发明人：	陈博学;A·韦尔德曼;A·库兹涅佐夫;A·舒杰葛洛夫
专利状态：	有效
申请日期：	2017-10-19T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-06T00:00:00+0800
申请号：	CN201780064586.X
公开号：	CN110100174A
代理机构：	北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人：	刘丽楠
分类号：	G01N21/95(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	美国加利福尼亚州
主权项：	1.一种混合度量系统，其包括：第一度量系统，其经配置以产生与半导体晶片上的第一测量点相关联的第一量的测量数据，其中所述第一测量点包含通过多个几何参数特性化的图案化度量目标；第二度量系统，其不同于所述第一度量系统，其中所述第二度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点的测量相关联的第二量的测量数据；及计算系统，其经配置以：基于所述第一量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第一几何参数的值；基于所述第二量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第二几何参数的值；基于所述第一量的测量数据及所述第二几何参数的所述值确定第一所关注参数的值；及基于所述第二量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第二所关注参数的值；及将所述第一所关注参数及所述第二所关注参数的所述值存储于存储器中。 2.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中所述第二度量系统是以下任一者：扫描电子显微镜SEM系统、透射电子显微镜TEM系统、原子力显微镜AFM系统及基于x射线的度量系统。 3.根据权利要求1所述的混合度量系统，其进一步包括：第三度量系统，其不同于所述第一度量系统及所述第二度量系统，其中所述第三度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点的测量相关联的第三量的测量数据，其中所述计算系统经进一步配置以：基于所述第三量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第三几何参数的值，其中所述第一所关注参数的所述确定也是基于所述第三几何参数的所述值；基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第三所关注参数的值；及将所述第三所关注参数的所述值存储于存储器中。 4.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中所述第二几何参数的所述值的所述确定在所述第一几何参数的所述值的所述确定之后发生且至少部分基于所述第一几何参数的所述值。 5.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中第一所关注参数的所述值的所述确定在所述第二几何参数的所述值的所述确定之后发生且至少部分基于所述第二几何参数的所述值。 6.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中所述计算系统经进一步配置以在第二所关注参数的所述值的所述确定之前使所述第一几何参数重新参数化。 7.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中所述计算系统经进一步配置以在所述第二所关注参数的所述值的所述确定之前变换所述第一几何参数的所述值。 8.根据权利要求1所述的混合度量系统，其中所述第二度量系统产生与包含裸片中度量目标的所述半导体晶片上的第二测量点的测量相关联的第三量的测量数据，其中所述计算系统经进一步配置以基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数和所述第二几何参数的所述值确定第三所关注参数的值。 9.一种混合度量系统，其包括：第一度量系统，其经配置以产生与半导体晶片上的第一测量点相关联的第一量的测量数据，其中所述第一测量点包含通过多个几何参数特性化的图案化度量目标；及第二度量系统，其不同于所述第一度量系统，其中所述第二度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点相关联的第二量的测量数据；及非暂时性计算机可读媒体，其包括指令，当通过计算系统执行所述指令时导致所述计算系统：基于所述第一量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第一几何参数的值；基于所述第二量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第二几何参数的值；基于所述第一量的测量数据及所述第二几何参数的所述值确定第一所关注参数的值；及基于所述第二量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第二所关注参数的值。 10.根据权利要求9所述的混合度量系统，其中所述第一度量系统是光学度量系统且所述第二度量系统是以下任一者：扫描电子显微镜SEM系统、透射电子显微镜TEM系统、原子力显微镜AFM系统及基于x射线的度量系统。 11.根据权利要求9所述的混合度量系统，其进一步包括：第三度量系统，其不同于所述第一度量系统及所述第二度量系统，其中所述第三度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点的测量相关联的第三量的测量数据，所述非暂时性计算机可读媒体进一步包括指令，当通过所述计算系统执行所述指令时导致所述计算系统：基于所述第三量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第三几何参数的值，其中所述第一所关注参数的所述确定也是基于所述第三几何参数的所述值；基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第三所关注参数的值。 12.根据权利要求9所述的混合度量系统，其中所述第二几何参数的所述值的所述确定在所述第一几何参数的所述值的所述确定之后发生且至少部分基于所述第一几何参数的所述值。 13.根据权利要求9所述的混合度量系统，其中第一所关注参数的所述值的所述确定在所述第二几何参数的所述值的所述确定之后发生且至少部分基于所述第二几何参数的所述值。 14.根据权利要求9所述的混合度量系统，其中所述计算系统经进一步配置以在第二所关注参数的所述值的所述确定之前使所述第一几何参数重新参数化。 15.根据权利要求9所述的混合度量系统，所述非暂时性计算机可读媒体进一步包括指令，当通过所述计算系统执行所述指令时导致所述计算系统在所述第二所关注参数的所述值的所述确定之前变换所述第一几何参数的所述值。 16.根据权利要求9所述的混合度量系统，其中所述第二度量系统产生与包含裸片中度量目标的所述半导体晶片上的第二测量点的测量相关联的第三量的测量数据，所述非暂时性计算机可读媒体进一步包括指令，当通过所述计算系统执行所述指令时导致所述计算系统基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数和所述第二几何参数的所述值确定第三所关注参数的值。 17.一种方法，其包括：将一定量的照明辐射提供到半导体晶片上的第一测量点，其中所述第一测量点包含通过多个几何参数特性化的图案化度量目标；响应于所述量的照明辐射而从所述测量点检测辐射量；通过第一度量系统基于所述所检测辐射量产生第一量的测量数据；通过第二度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点的测量相关联的第二量的测量数据；基于所述第一量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第一几何参数的值；基于所述第二量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第二几何参数的值；基于所述第一量的测量数据及所述第二几何参数的所述值确定第一所关注参数的值；及基于所述第二量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第二所关注参数的值。 18.根据权利要求17所述的方法，其进一步包括：通过第三度量系统产生与所述半导体晶片上的所述第一测量点的测量相关联的第三量的测量数据；基于所述第三量的测量数据确定与所述图案化度量目标相关联的第三几何参数的值，其中所述第一所关注参数的所述确定也是基于所述第三几何参数的所述值；基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数的所述值确定第三所关注参数的值。 19.根据权利要求17所述的方法，其进一步包括：在第二所关注参数的所述值的所述确定之前使所述第一几何参数重新参数化。 20.根据权利要求17所述的方法，其进一步包括：产生与包含裸片中图案化度量目标的所述半导体晶片上的第二测量点的测量相关联的第三量的测量数据；及基于所述第三量的测量数据及所述第一几何参数和所述第二几何参数的所述值确定第三所关注参数的值。
所属类别：	发明专利