专利名称: |
基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法 |
摘要: |
本发明公开了一种基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,涉及输变电设备运行状态检修技术领域。该方法包括:获取积污绝缘子的第一高光谱图像集和第二高光谱图像集;提取第一高光谱图像集的高光谱数据,将其中一部分数据作为训练集,另一部分数据作为测试集,建立污秽度多参量检测模型,并用测试集对该模型进行优化;提取第二高光谱图像集中若干个局部区域的高光谱数据,并通过优化后的污秽度多参量检测模型进行识别,从而得到盐灰比例Ⅱ和污秽总量Ⅱ,计算出绝缘子的污秽等值盐密Ⅱ和污秽灰密Ⅱ。该方法识别准确率高,适用于现场带电检测,可实现绝缘子各局部区域污秽度的检测,为制定具有针对性的绝缘子清扫方案提供了技术参考。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
西南交通大学 |
发明人: |
吴广宁;邱彦;郭裕钧;张血琴;刘凯;高国强;杨泽锋;魏文赋 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-08-13T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-25T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910745335.9 |
公开号: |
CN110376214A |
代理机构: |
成都正华专利代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
李蕊 |
分类号: |
G01N21/94(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
610031 四川省成都市二环路北一段 |
主权项: |
1.一种基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、获取积污绝缘子的高光谱图像集,并对高光谱图像集进行校正、变换处理,将处理后的高光谱图像集分为两部分,分别为第一高光谱图像集和第二高光谱图像集; S2、获取第一高光谱图像集所对应的积污绝缘子区域的盐灰比例Ⅰ和污秽总量Ⅰ; S3、提取第一高光谱图像集的纹理特征和高光谱谱线,其中第一高光谱图像集的纹理特征对应标签为盐灰比例Ⅰ,第一高光谱图像集的高光谱谱线对应标签为污秽总量Ⅰ,将第一高光谱图像集的一部分纹理特征和高光谱谱线作为训练集,另一部分纹理特征和高光谱谱线作为测试集,根据分类算法和训练集建立污秽度多参量检测模型,并用测试集对污秽度多参量检测模型进行优化; S4、提取第二高光谱图像集中若干个局部区域的纹理特征和高光谱谱线,并通过优化后的污秽度多参量检测模型对它们进行识别,得到盐灰比例Ⅱ和污秽总量Ⅱ,根据盐灰比例Ⅱ和污秽总量Ⅱ,计算积污绝缘子的污秽等值盐密Ⅱ和污秽灰密Ⅱ,完成绝缘子污秽度的非接触检测。 2.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S1中,是选择在积污绝缘子的污秽类型相同区域获取高光谱图像集。 3.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S1中,获取积污绝缘子的高光谱图像集的方法是:无人机搭载高光谱仪飞行至线路杆塔悬停后,利用高光谱仪获取积污绝缘子的高光谱图像集。 4.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述校正为黑白校正或者多元散射校正。 5.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述变换处理为标准正态变换、Savitzky-Golay平滑、小波去噪、微分变换以及对数变换中任意一种。 6.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S2具体包括: S21、分别清洗第一高光谱图像集中各图像所对应的积污绝缘子的区域,并收集混有积污绝缘子污秽的水溶液; S22、通过电导率测试仪测量积污绝缘子被清洗过的区域,计算得到污秽等值盐密Ⅰ; S23、对收集到的水溶液进行过滤、烘干、称重,计算得到污秽灰密Ⅰ; S24、根据污秽等值盐密Ⅰ和污秽灰密Ⅰ,计算得到盐灰比例Ⅰ。 S25、根据污秽等值盐密Ⅰ、污秽灰密Ⅰ和积污绝缘子清洗面积,得污秽总量Ⅰ。 7.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S3中,分类算法为朴素贝叶斯、支持向量机、决策树、随机森林和最近邻分类算法中的任意一种。 8.根据权利要求1所述基于高光谱技术的绝缘子污秽度非接触检测方法,其特征在于,所述步骤S4中,所述局部区域最小可为第二高光谱图像集中的一个像素点大小。 |
所属类别: |
发明专利 |