专利名称: |
薄膜涂层色度分析设备和薄膜涂层分类系统 |
摘要: |
本实用新型提供了一种薄膜涂层色度分析设备和薄膜涂层分类系统,属于薄膜涂层色度分析技术领域。本实用新型提供了一种薄膜涂层色度分析设备,包括分光色度计、光源和待测样品;待测样品包括基材和设置在基材上表面的薄膜涂层;分光色度计和光源设置在待测样品的上方;光源与待测样品的距离为15‑35cm;直线A与直线B的夹角为1‑15°。通过薄膜涂层色度分析设备获得不同种类薄膜涂层的色度值,建立数据库,从而通过测定待测薄膜涂层色度值,结合数据库简单快速地判断薄膜涂层的种类,这种分类方法简单、快捷、实用,应用于类金刚石薄膜分类,可大幅度简化类金刚石薄膜分类过程,为实际应用于生产带来了极大的便利。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
深圳先进技术研究院 |
发明人: |
唐永炳;周小龙 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-19T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-18T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201822143468.2 |
公开号: |
CN209513603U |
代理机构: |
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
吴乃壮 |
分类号: |
G01N21/25(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
518000 广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1068号 |
主权项: |
1.一种薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,包括分光色度计、光源和待测样品; 所述待测样品包括基材和设置在基材上表面的薄膜涂层; 所述分光色度计和光源设置在待测样品的上方; 所述光源与待测样品的距离为15-35cm; 所述光源的中心点到待测样品的垂足为交点D; 所述光源的中心点到交点D的直线为直线A,所述分光色度计的中心点到交点D的直线为直线B; 所述直线A与直线B的夹角为1-15°。 2.根据权利要求1所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述色度分析设备还包括样品台,所述待测样品放置在样品台表面; 和/或,所述分光色度计和光源平齐,所述待测样品位于光源正下方; 和/或,所述直线A与直线B的夹角为5-10°。 3.根据权利要求2所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述直线A与直线B的夹角为10°。 4.根据权利要求1-3任一项所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述光源为白色LED光源; 和/或,所述分光色度计能够实现CIELAB和/或CIELUV颜色空间测试要求。 5.根据权利要求1-3任一项所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述基材包括单晶硅、石英、透明导电玻璃或硬质合金中的至少一种。 6.根据权利要求5所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述基材包括单晶硅。 7.根据权利要求1-3任一项所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述薄膜涂层的粗糙度小于10nm,所述薄膜涂层的厚度为20-3000nm; 和/或,所述薄膜涂层包括无机非金属薄膜。 8.根据权利要求7所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述薄膜涂层包括类金刚石薄膜或钻石薄膜。 9.根据权利要求8所述的薄膜涂层色度分析设备,其特征在于,所述薄膜涂层包括类金刚石薄膜。 10.一种薄膜涂层分类系统,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的薄膜涂层色度分析设备。 |
所属类别: |
实用新型 |