专利名称: |
小磁瓦微缺陷可视化检测装置 |
摘要: |
本实用新型提供一种小磁瓦微缺陷可视化检测装置:包括玻璃圆盘、正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位和电磁铁剔除装置,正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位和电磁铁剔除装置均位于玻璃圆盘正上方,正面检测工位、上面检测工位和反面监测工位位于玻璃圆盘同一回转半径上,电磁铁剔除装置位于玻璃圆盘轴心位置,电磁铁剔除装置包括凹槽圆盘、滑轨和电磁铁,凹槽圆盘位于玻璃圆盘轴心位置;凹槽圆盘顶部以其轴心为中心设置有环形的固定槽,滑轨首端通过固定件与固定槽连接,电磁铁设置在滑轨尾端。本实用新型能准确检测出有缺陷的小磁瓦,合格品经过合格品出料挡板阻挡,顺着角度滑下工作台到出料传送皮带上。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
浙江;33 |
申请人: |
浙江理工大学 |
发明人: |
潘岩;沈军民;伍俊露;孔卓;张露滨;朱琳;王宏鹏;姚卓滨;汪子杰;李俊峰 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-11-07T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-22T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201821823728.4 |
公开号: |
CN209525279U |
代理机构: |
杭州中成专利事务所有限公司 |
代理人: |
金祺 |
分类号: |
G01N21/892(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街5号 |
主权项: |
1.小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于:包括玻璃圆盘(1)、正面检测装置(2)、上面检测装置(3)、反面检测装置(4)和电磁铁剔除装置(7); 所述正面检测装置(2)、上面检测装置(3)、反面检测装置(4)和电磁铁剔除装置(7)均位于玻璃圆盘(1)正上方;所述正面检测装置(2)、上面检测装置(3)和反面检测装置(4)位于玻璃圆盘(1)同一回转半径上;所述电磁铁剔除装置(7)位于玻璃圆盘(1)轴心位置; 所述玻璃圆盘(1)上表面设置有周向均匀设置有至少三个与正面检测装置(2)、上面检测装置(3)和反面检测装置(4)配合使用的凸起(1-1); 所述正面检测装置(2)包括相机一(2-1)、条形光源一(2-2)和碗状光源一(2-3);所述条形光源一(2-2)的数量为两个,两个条形光源一(2-2)对称竖直设置;所述相机一(2-1)的镜头水平设置,两个条形光源一(2-2)分别设置在相机一(2-1)的两侧且均朝向相机一(2-1)的镜头正前方;所述相机一(2-1)的镜头朝向从玻璃圆盘(1)的边缘位置朝向玻璃圆盘(1)的中心位置;所述碗状光源一(2-3)的轴心位置开孔,碗状光源一(2-3)朝向玻璃圆盘(1);所述碗状光源一(2-3)位于相机一(2-1)的镜头正前方的上方; 所述上面检测装置(3)的检测机构包括相机二(3-1)和碗形光源二(3-2);所述碗形光源二(3-2)的轴心位置开孔;所述相机二(3-1)的镜头对准碗形光源二(3-2)的轴心位置,所述相机二(3-1)和碗形光源二(3-2)均朝向玻璃圆盘(1); 所述反面检测装置(4)包括相机三(4-1)和条形光源三(4-2);所述条形光源三(4-2)的数量为两个;两个条形光源三(4-2)对称竖直设置,条形光源三(4-2)分别设置在相机三(4-1)的两侧且均朝向相机三(4-1)的镜头正前方;所述相机三(4-1)的镜头从玻璃圆盘(1)的中心位置朝向玻璃圆盘(1)的边缘位置; 所述电磁铁剔除装置(7)包括凹槽圆盘(7-2)、滑轨(7-1)和电磁铁(7-4);所述凹槽圆盘(7-2)位于玻璃圆盘(1)轴心位置;凹槽圆盘(7-2)顶部以其轴心为中心设置有环形的固定槽(7-6),滑轨(7-1)首端通过固定件(7-5)与固定槽(7-6)连接,所述电磁铁(7-4)设置在滑轨(7-1)尾端。 2.根据权利要求1所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 还包括出料传送皮带(6);所述出料传送皮带(6)位于玻璃圆盘(1)的边沿;所述玻璃圆盘(1)正上方设置有与出料传送皮带(6)配合使用的挡板(10)。 3.根据权利要求2所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 所述滑轨(7-1)沿着其长度方向等距设置有至少三个滑轨孔(7-7),固定件(7-5)穿过滑轨孔(7-7)后伸入固定槽(7-6)从而固定滑轨(7-1)和凹槽圆盘(7-2)。 4.根据权利要求3所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 所述正面检测装置(2)还包括光电传感器一(2-5)和与相机一(2-1)配合使用的背景板一(2-4);所述光电传感器一(2-5)和相机一(2-1)信号连接; 所述上面检测装置(3)还包括光电传感器二(3-3);所述光电传感器二(3-3)与相机二(3-1)信号连接; 所述反面检测装置(4)还包括光电传感器三(4-4)和与相机三(4-1)配合使用的背景板二(4-3);所述光电传感器三(4-4)与相机三(4-1)信号连接。 5.根据权利要求4所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 所述滑轨(7-1)的数量为三个,三个滑轨(7-1)分别与正面检测装置(2)、上面检测装置(3)、反面检测装置(4)配合使用。 6.根据权利要求5所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 所述正面检测装置(2)、上面检测装置(3)和反面检测装置(4)均设置有次品出料传送皮带。 7.根据权利要求6所述的小磁瓦微缺陷可视化检测装置,其特征在于: 所述电磁铁(7-4)为设置有弹簧的推拉式电磁铁。 |
所属类别: |
实用新型 |