专利名称: |
用于小角X射线散射测量的晶片对准 |
摘要: |
本申请涉及用于小角X射线散射测量的晶片对准。X射线装置包括支架、X射线源、检测器、光学测量仪器和电机。支架被配置为保持具有光滑的第一侧和与第一侧相对且图案在其上被形成的第二侧的平面样本。X射线源被配置成朝着样本的第一侧引导X射线的第一波束。检测器被定位于样本的第二侧上,以便接收透射穿过样本并从图案散射的X射线的至少一部分。光学测量仪器被配置成朝着样本的第一侧引导光辐射的第二波束,感测从样本的第一侧反射的光辐射,并响应于感测到的光辐射而输出指示样本的定位的信号。电机被配置成响应于信号而调整在检测器和样本之间的对准。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
以色列;IL |
申请人: |
布鲁克杰维以色列公司 |
发明人: |
尤里·文施泰因;亚历山大·克罗赫马尔;亚瑟·佩莱德;盖伊·谢弗;马修·沃明顿 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-04-23T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910330447.8 |
公开号: |
CN110398505A |
代理机构: |
北京安信方达知识产权代理有限公司 |
代理人: |
王红英;杨明钊 |
分类号: |
G01N23/20008(2018.01);G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
以色列米格达勒埃梅克 |
主权项: |
1.一种X射线装置,包括: 支架,其被配置为保持具有第一侧和第二侧的平面样本,所述第一侧是光滑的,所述第二侧与所述第一侧相对并且图案在所述第二侧上被形成; X射线源,其被配置成朝着所述样本的所述第一侧引导X射线的第一波束; 检测器,其被定位于所述样本的所述第二侧上,以便接收透射穿过所述样本并从所述图案散射的所述X射线的至少一部分; 光学测量仪器,其被配置成朝着所述样本的所述第一侧引导光辐射的第二波束,感测从所述样本的所述第一侧反射的所述光辐射,并响应于所感测到的光辐射而输出指示所述样本的定位的信号;以及 电机,其被配置成响应于所述信号而调整在所述检测器和所述样本之间的对准。 2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述信号指示选自包括下列项的一组定位参数的至少一个定位参数:在所述样本和所述检测器之间的距离,以及所述样本相对于所述检测器的定向。 3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述样本的所述定向包括所述样本相对于所述检测器的表面的倾斜角。 4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述样本包括单晶材料,并且所述装置包括被配置为测量从所述单晶材料的晶格平面衍射的所述X射线的至少一部分的强度的附加检测器,并且所述装置包括控制器,所述控制器被配置为响应于所测量的强度来校准X射线的所述第一波束相对于所述晶格平面的定向。 5.根据权利要求1所述的装置,且包括处理器,所述处理器被配置为指示所述光学测量仪器朝着在所述样本的所述第一侧上的多个位置引导第二波束,以便输出指示从所述多个位置反射的多个相应光辐射的多个相应信号,其中,所述处理器还被配置为基于所述多个信号来显示指示至少在所述多个位置处所述样本的定位的三维(3D)地图。 6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述处理器被配置为基于所述多个位置来估计在所述第一侧上的另外一个或更多个相应位置处所述样本的一个或更多个另外的定位,并且在所述3D地图上显示所述另外的位置。 7.根据权利要求1所述的装置,且包括能量分散X射线(EDX)检测器组件,所述能量分散X射线(EDX)检测器组件被配置为测量从在所述样本的所述定位处的所述图案发射的X射线荧光,并输出指示在所述定位处测量的所述X射线荧光的强度的电信号。 8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述EDX检测器组件包括基于硅或基于锗的固态EDX检测器。 9.一种方法,包括: 在支架上保持具有第一侧和第二侧的平面样本,所述第一侧是光滑的,所述第二侧与所述第一侧相对且图案在所述第二侧上被形成; 朝着所述样本的所述第一侧引导X射线的第一波束; 从被定位于所述样本的所述第二侧上的检测器接收透射穿过所述样本并从所述图案散射的所述X射线的至少一部分; 朝着所述样本的所述第一侧引导光辐射的第二波束,以用于感测从所述样本的所述第一侧反射的所述光辐射,以及响应于所感测到的光辐射而输出指示所述样本的定位的信号;以及 响应于所述信号而调整在所述检测器和所述样本之间的对准。 10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述信号指示选自包括下列项的一组定位参数的至少一个定位参数:在所述样本和所述检测器之间的距离,以及所述样本相对于所述检测器的定向。 11.根据权利要求10所述的方法,其中,所述样本的所述定向包括所述样本相对于所述检测器的表面的倾斜角。 12.根据权利要求9所述的方法,其中,所述样本包括单晶材料,并且所述方法包括测量从所述单晶材料的晶格平面衍射的所述X射线的至少一部分的强度,以及响应于所测量的强度来校准X射线的所述第一波束相对于所述晶格平面的定向。 13.根据权利要求9所述的方法,且包括指示所述光学测量仪器朝着在所述样本的所述第一侧上的多个位置引导所述第二波束,以便输出指示从所述多个位置反射的多个相应光辐射的多个相应信号,以及基于所述多个信号来显示指示至少在所述多个位置处所述样本的定位的三维(3D)地图。 14.根据权利要求13所述的方法,且包括基于所述多个位置来估计在所述第一侧上的另外一个或更多个相应位置处所述样本的一个或更多个另外的定位,并且在所述3D地图上显示所述另外的位置。 15.根据权利要求9所述的方法,且包括测量从在所述样本的所述定位处的所述图案发射的X射线荧光,并输出指示在所述样本的所述定位处测量的所述X射线荧光的强度的电信号。 16.一种X射线装置,包括: 支架,其被配置为保持包括单晶材料并且具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧的样本; X射线源,其被配置成朝着所述样本的所述第一侧引导X射线的波束; 检测器,其被定位于所述样本的所述第二侧上,并且被配置为接收从所述单晶材料的晶格平面衍射的所述X射线的至少一部分; 电机,其被配置成调整在所述检测器和所述样本之间的对准;以及 控制器,其被配置为基于衍射的X射线来测量所述样本相对于所述检测器的定向,并驱动所述电机以响应于所测量的定向来调整所述对准。 |
所属类别: |
发明专利 |