详情

原文传递一种基于光子晶体的OSR热控涂层

专利名称：	一种基于光子晶体的OSR热控涂层
摘要：	本发明涉及热控涂层技术领域，更具体而言，涉及一种基于光子晶体的OSR热控涂层，由发射层、紫外光反射层、可见红外光反射层组成，紫外光反射层作为连接层，可见红外光反射层中介质C作为隔离层，保障了光子晶体较强的附着力和环境适应性，实现太阳能紫外‑可见‑红外全光谱高反射的同时，实现其太阳能宽光谱低吸收，同时，保持了其原有OSR热控涂层高发射的物理特性，采用光子晶体对于禁带频域的电磁波的态密度较低，降低其电磁波与有损耗介质和吸收介质相互作用，以降低航天器接收的太阳能辐射热，降低航天器表面的温度，最终实现了200 nm‑2000 nm的禁带特性，拓宽了光子晶体的禁带宽度。原本技术在红外波段的禁带宽度为最宽为200 nm左右。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	山西;14
申请人：	中国电子科技集团公司第三十三研究所
发明人：	赵亚丽;张捷;贾琨;郭峰;雷忆三;马晨
专利状态：	有效
申请日期：	2019-07-26T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-08T00:00:00+0800
申请号：	CN201910679567.9
公开号：	CN110422345A
代理机构：	北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	申绍中
分类号：	B64G1/54(2006.01);B;B64;B64G;B64G1
申请人地址：	030032 山西省太原市经济技术开发区工业园彩虹街1号
主权项：	1.一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：由发射层、紫外光反射层、可见红外光反射层组成；所述发射层采用具备＞0.8的红外发射率，可透过超过90%的紫外光、可见光和200nm-2000nm红外光，具备较高的传输率，并且耐高温，热膨胀系数极小的材料；所述紫外光反射层采用由电介质薄膜A和电介质薄膜B交替构成的介质型光子晶体，交替周期为3-7，所述电介质薄膜A和电介质薄膜B为非金属材料，所述紫外光反射层在200nm-400nm为禁带；所述可见红外光反射层由介质C和介质D交替构成，交替周期为4.5-7.5，所述介质C与介质D为金属光子晶体薄膜，所述可见红外光反射层在可见光和400nm-2000nm红外光的等效介电常数小于0。 2.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述发射层采用石英玻璃和铈玻璃中任一种，厚度为0.1mm-0.2mm。 3.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述电介质薄膜A采用吸收光子波长在太阳光谱频段外，即小于200nm和大于2000nm的非金属电介质材料，或在可见光和红外光低吸收高通过的非金属电介质材料；所述电介质薄膜B采用低损耗、介电常数大的材料。 4.根据权利要求1或3所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述电介质薄膜A采用Al2O3、BaF2、KBr、SiO2、SiC、MgF2和TiO2中任一种；所述电介质薄膜B采用Si、Ge中任一种。 5.根据权利要求1或3所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述电介质薄膜B介电常数至少高于电介质薄膜A介电常数1.5。 6.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述紫外光反射层电介质薄膜A采用Al2O3薄膜，膜层厚度dA=80nm-120nm；所述电介质薄膜B采用Si薄膜，膜层厚度dB=5nm-10nm；交替周期设置为4。 7.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述介质C为一种高介电常数的电介质，其介电常数的实部大于1.5；介质D为反射率较大的金属材料，其在可见光和红外光的介电常数实部小于零。 8.根据权利要求1或7所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述介质C采用Al2O3、SiO2、TiO2和ITO中任一种；所述介质D采用Al和Ag中任一种。 9.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的OSR热控涂层，其特征在于：所述介质C采用ITO薄膜；所述介质D采用Ag薄膜，金属Ag的膜厚大于100nm；所述Ag薄膜和ITO薄膜的厚度比大于1.5。
所属类别：	发明专利