专利名称: |
原料的粒度分布测定装置、粒度分布测定方法以及空隙率测定装置 |
摘要: |
提供能够高精度地测定包含粗粒和细粒的原料的粒度分布的原料的粒度分布测定装置、粒度分布测定方法、以及使用所测定的粒度分布来测定空隙率的空隙率测定装置。原料的粒度分布测定装置,具有:粗粒测定装置,取得表示粗粒的粒度分布的信息;细粒测定装置,取得表示细粒的粒度分布的信息;以及运算装置,使用表示粗粒的粒度分布的信息来算出粗粒的粒度分布,使用表示细粒的粒度分布的信息来算出细粒的粒度分布,并使用粗粒的粒度分布和细粒的粒度分布来算出原料整体的粒度分布。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
杰富意钢铁株式会社 |
发明人: |
山平尚史;西野嵩启;平田丈英;津田和吕;坪井俊树 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-03-30T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-19T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201880023175.0 |
公开号: |
CN110476053A |
代理机构: |
北京市金杜律师事务所 |
代理人: |
杨宏军 |
分类号: |
G01N21/27(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
日本东京都 |
主权项: |
1.原料的粒度分布测定装置,其具有: 粗粒测定装置,其取得表示粗粒的粒度分布的信息; 细粒测定装置,其取得表示细粒的粒度分布的信息;以及 运算装置,其使用所述表示粗粒的粒度分布的信息来算出粗粒的粒度分布,使用所述表示细粒的粒度分布的信息来算出细粒的粒度分布,并使用所述粗粒的粒度分布和所述细粒的粒度分布来算出原料整体的粒度分布。 2.如权利要求1所述的原料的粒度分布测定装置,其中, 所述表示细粒的粒度分布的信息是原料的图像数据, 使用将所述图像数据的亮度平均而得到的平均亮度来算出所述细粒的粒度分布。 3.如权利要求1所述的原料的粒度分布测定装置,其中, 所述细粒测定装置具备对来自所述原料的反射光进行分光而测定分光反射率的分光测定部, 所述细粒测定装置取得多个波长的分光反射率作为所述表示细粒的粒度分布的信息, 所述运算装置使用对所述多个波长的分光反射率实施主成分分析或者偏最小二乘法(PLS)而得到的预先确定的基底向量的得分来算出所述细粒的粒度分布。 4.原料的粒度分布测定方法,其包括下述步骤: 粗粒测定步骤,取得表示粗粒的粒度分布的信息; 细粒测定步骤,取得表示细粒的粒度分布的信息; 粗粒的粒度分布算出步骤,使用在所述粗粒测定步骤中取得的表示粗粒的粒度分布的信息来算出粗粒的粒度分布; 细粒的粒度分布算出步骤,使用在所述细粒测定步骤中取得的表示细粒的粒度分布的信息来算出细粒的粒度分布;以及 原料的粒度分布算出步骤,使用所述粗粒的粒度分布和所述细粒的粒度分布来算出原料整体的粒度分布。 5.如权利要求4所述的原料的粒度分布测定方法,其中, 在所述原料的粒度分布算出步骤中,将所述粗粒的粒度分布及所述细粒的粒度分布制成线性模型,将制成所述线性模型的粗粒的粒度分布和制成所述线性模型的细粒的粒度分布组合来算出原料整体的粒度分布。 6.空隙率测定装置,其为测定在容器内堆积的原料的空隙率的空隙率测定装置, 所述原料包含粒径大的粗粒和粒径小的细粒, 所述空隙率测定装置具备: 粗粒测定装置,其测定所述粗粒的粒度分布; 细粒测定装置,其测定所述细粒的粒度分布;以及 运算装置,其使用由所述粗粒测定装置测定出的粗粒的粒度分布和由所述细粒测定装置测定出的细粒的粒度分布来算出在所述容器内堆积的状态下的所述原料的空隙率。 7.如权利要求6所述的空隙率测定装置,其中, 所述粗粒测定装置及所述细粒测定装置设置于将所述原料向容器输送的传送带的上方, 所述运算装置算出在所述容器内堆积的状态下的所述原料的空隙率。 8.如权利要求6或权利要求7所述的空隙率测定装置,其中, 所述运算装置以使算出的所述粗粒的粒度分布及所述细粒的粒度分布与预先使用筛测定出的粗粒的粒度分布及细粒的粒度分布一致的方式进行校正。 9.如权利要求8所述的空隙率测定装置,其中, 所述运算装置使用对粗粒的粒度分布进行校正的校准线对由所述粗粒测定装置测定出的所述粗粒的粒度分布进行校正,使用对细粒的粒度分布进行校正的校准线对由所述细粒测定装置测定出的所述细粒的粒度分布进行校正。 |
所属类别: |
发明专利 |