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原文传递基片传送装置

专利名称：	基片传送装置
摘要：	基片传送装置，即，将基片（２３、２３′…）送入并使其通过真空处理设备的一种传送装置。该真空处理设备具有若干工作站、一个加热装置和若干基片支架，基片支架可以是板式的、扁平的和平行六面体的，这些基片支架可在垂直状态下沿预定的传送路径通过工作站。在真空室内给实心的下端部（６）装上保持和导引装置，并给该下端部（６）装上用金银丝工艺制成的（ｆｉｌｉｇｒａｎ）平面框架结构的上端部（７），待加工的基片（２３、２３′…）借助于一个基片支架（１４、１５）悬挂在该框架上，并且基片支架（１４、１５）可活动地保持在框架上，当加热
专利类型：	发明专利
申请人：	莱博德股份公司
发明人：	P·马勒; H·沃尔夫
专利状态：	有效
申请日期：	1992-11-27T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN92114574.8
公开号：	CN1073648
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	林道棠
分类号：	B65G49/00
申请人地址：	联邦德国哈瑙
所属类别：	发明专利