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原文传递衬底处理系统

专利名称：	衬底处理系统
摘要：	一种衬底处理系统，沿着从箱区到外部曝光装置之间往复的运输作业线，依次搬送处理多块衬底，该系统包括：具有沿上述运输作业线设置在上游侧的第1处理部及设置在下游侧的第2处理部的多个处理部件组；及从上述第1处理部接收沿着所述运输作业线搬送的衬底的第1通路单元；及配置在比上述第1通路单元还下游侧，将通过上述第1通路单元的衬底运送到上述第2处理段的第2通路单元；及设在上述第1及第2通路单元至少一个通路单元上方的热处理部；及设在上述第1或第2通路单元至少一个通路单元下方，为防止在上述运输作业线上的衬底之间发生碰撞，至少
专利类型：	发明专利
申请人：	东京毅力科创株式会社
发明人：	田上真也;林诚;坂田富裕
专利状态：	有效
申请日期：	2002-11-29T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN02151869.6
公开号：	CN1426087
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	杨松龄
分类号：	H01L21/00
申请人地址：	日本东京都
所属类别：	发明专利