原文传递
立式热处理装置及移载机构的自动示教方法
| 专利名称： | 立式热处理装置及移载机构的自动示教方法 |
| 摘要： | 本发明涉及立式热处理装置(1)的移载机构(21)，其具有可升 降及可旋转的基台(25)和配置在该基台上的可进退并支承晶片(W) 的多个基板支承件(20)。在基台(25)上，设置有向基板支承件(20) 的前进后退方向射出光线、并利用该反射光检测目标部件的第一传感 器(45)；并在基板支承件(20)的两个前端部，设置有通过遮挡在两 前端部之间行进的光线、检测目标部件的第二传感器(40)。在特定位 置设有位置检测用的突起(49)和(50)的目标部件(44)设置于晶 舟(8)的规定位置，基台(25) |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 发明人： | 浅利聪;三原胜彦;菊池浩 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2005-03-25T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200580009616.4 |
| 公开号： | CN1934695 |
| 代理机构： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 龙 淳 |
| 分类号： | H01L21/68(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
