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原文传递 装置处理系统
专利名称: 装置处理系统
摘要: 一种通过改善装置中碎片发生来提高自清洗效率的方式的用于处理装置 的设备和相关方法。该设备和相关方法包括沿着摇动传送机路径摇动装置,该 摇动传送机路径由支承各自悬臂偏心辊子列的相对轨道确定,其中由相对轨道 中的一根支承的辊子明显地与由相对轨道中的另一根支承的辊子相脱离,并 且,其中装置由一根轨道支承的一个或多个辊子、以及由另一根轨道支承的一 个或多个辊子瞬时支承。
专利类型: 发明专利
申请人: 希捷科技有限公司
发明人: Y·俞;K·宽;H·恩
专利状态: 有效
申请日期: 2008-05-15T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200810098832.6
公开号: CN101386369
代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
代理人: 马 洪
分类号: B65G13/02(2006.01)I
申请人地址: 美国加利福尼亚州
所属类别: 发明专利
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