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原文传递 X射线荧光光度计

专利名称：	X射线荧光光度计
摘要：	本发明涉及用于测量由目标（7）发射的X射线荧光的X射线荧光XRF光度计（10），其中XRF光度计（10）包括具有发射发散的X射线波束（3a）的阳极（2）的X射线管（1）、被配置成将发散的X射线波束（3a）聚焦在目标（7）上的毛细管透镜（6）、定位在X射线管（1）的阳极（2）与毛细管透镜（6）之间并且包括至少一个针孔（9a，9b）的孔径系统（4），以及被配置用于检测由目标（7）发射的X射线荧光辐射的检测器（8），其中至少一个针孔（9a，9b）被配置用于插入到发散的X射线波束（3a）中并且用于减小阳极（2）与毛细管透镜（6）之间的发散的X射线波束（3a）的波束截面（5a）。本发明还涉及用于光度计（10）的孔径系统（4）、用于调节光度计（10）的焦深的孔径系统（4）的用途以及用于调节光度计（10）的焦深的方法。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	德国;DE
申请人：	布鲁克纳米有限责任公司
发明人：	U.瓦尔德施莱格;R.A.塔格莱贝尔丹
专利状态：	有效
申请日期：	2018-11-06T00:00:00+0800
发布日期：	2019-05-14T00:00:00+0800
申请号：	CN201811312657.6
公开号：	CN109752402A
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	毕铮;闫小龙
分类号：	G01N23/223(2006.01);G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	德国柏林
主权项：	1.用于测量由目标（7）发射的X射线荧光的X射线荧光XRF光度计（10），所述XRF光度计（10）包括：具有发射发散的X射线波束（3a）的阳极（2）的X射线管（1）；被配置成将发散的X射线波束（3a）聚焦在目标（7）上的毛细管透镜（6）；定位在X射线管（1）的阳极（2）与毛细管透镜（6）之间并且包括至少一个针孔（9a，9b）的孔径系统（4）；以及被配置用于检测由目标（7）发射的X射线荧光辐射的检测器（8），其中所述至少一个针孔（9a，9b）被配置用于插入到发散的X射线波束（3a）中并且用于减小阳极（2）与毛细管透镜（6）之间的发散的X射线波束（3a）的波束截面（5a）。 2.权利要求1所述的XRF光度计（10），其中将毛细管透镜（6）的前焦点放置在阳极（2）处。 3.权利要求1或2所述的XRF光度计（10），其中X射线管（1）是微聚焦管和/或其中XRF光度计（10）是微XRF光度计。 4. 前述权利要求中任一项所述的XRF光度计（10），其中毛细管透镜（6）具有遵循以下等式的入口孔径（11）、前焦距和前孔径角α：，并且其中，前焦距对应于入口孔径（11）与阳极（2）之间的距离，和/或其中毛细管透镜（6）具有遵循以下等式的出口孔径（12）、后焦距和后孔径角β：，并且其中后焦距对应于出口孔径（12）与目标（7）之间的距离。 5.前述权利要求中任一项所述的XRF光度计（10），其中孔径系统（4）包括可调节尺寸的至少一个针孔（9a，9b）。 6.前述权利要求中任一项所述的XRF光度计（10），其中孔径系统包括旋转器（4）或滑动器，所述旋转器（4）或滑动器每一个具有不同尺寸的多个针孔（9a，9b），所述多个针孔（9a，9b）每一个被配置用于单独地插入到发散的X射线波束（3a）中。 7.权利要求6所述的XRF光度计（10），其中旋转器（4）或滑动器还包括用于在频谱上修改发散的X射线波束（3a）的至少一个滤波器。 8.权利要求6所述的XRF光度计（10），还包括具有用于在频谱上修改发散的X射线波束（3a）的至少一个滤波器的附加旋转器或滑动器。 9.用于具有X射线管（1）和毛细管透镜（6）的X射线荧光光度计（10）的孔径系统（4），所述孔径系统（4）包括至少一个针孔（9a，9b），所述至少一个针孔（9a，9b）被配置成定位在X射线管（1）的阳极（2）与毛细管透镜（6）之间并且被配置用于减小由阳极（2）发射的发散的X射线波束的波束截面。 10.根据权利要求9所述的孔径系统（4），还包括旋转器（4）或滑动器，所述旋转器（4）或滑动器每一个具有不同尺寸的多个针孔（9a，9b）或者还包括可调节尺寸的至少一个针孔（9a，9b），所述多个针孔（9a，9b）每一个被配置用于单独地插入到发散的X射线波束（3a）中。 11.根据权利要求10所述的孔径系统（4），其中旋转器（4）或滑动器还包括用于在频谱上修改发散的X射线波束（3a）的至少一个滤波器。 12.用于调节X射线荧光XRF光度计（10）的焦深dF的方法，所述XRF光度计（10）包括具有发射发散的X射线波束（3a）的阳极（2）的X射线管（1）、被配置成将发散的X射线波束（3a）聚焦在目标（7）上的毛细管透镜（6）以及定位在X射线管（1）的阳极（2）与毛细管透镜（6）之间的孔径系统（4），孔径系统（4）包括至少一个针孔（9a，9b），所述方法包括以下步骤：将所述至少一个针孔（9a，9b）之一插入在阳极（2）与毛细管透镜（6）之间的发散的X射线波束（3a）中；利用所述至少一个针孔（9a，9b）之一减小发散的X射线波束（3a）的截面和毛细管透镜（6）的前孔径角α；以及增加XRF光度计（10）的焦深dF。 13. 权利要求12所述的方法，还包括以下步骤：基于目标（7）的形貌估计要求的目标焦深；以及基于所估计的目标焦深设定XRF光度计（10）的焦深dF。 14. 权利要求12或13所述的方法，还包括以下步骤：在X和Y方向中的至少一个上扫描目标（7）；以及在扫描目标（7）的同时适配XRF光度计的焦深dF。 15.用于调节X射线荧光XRF光度计（10）的焦深的根据权利要求10的孔径系统（4）的用途，所述XRF光度计（10）包括具有发射发散的X射线波束（3a）的阳极（2）的X射线管（1）、被配置成将发散的X射线波束（3a）聚焦在目标（7）上的毛细管透镜（6），其中孔径系统（4）定位于X射线管（1）的阳极（2）与毛细管透镜（6）之间并且包括至少一个针孔（9a，9b），所述至少一个针孔（9a，9b）被配置用于减小发散的X射线波束（3a）的波束截面。
所属类别：	发明专利