专利名称: |
一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置 |
摘要: |
本实用新型公开了一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置,所述气体控制装置包括:等离子气控制系统,所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上;辅助气控制系统,所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上;雾化气控制系统,所述雾化器控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上;控制器,所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。本实用新型结构简单、操作方便、工作稳定有效,可实现单气体输入和流量等的自动控制。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
上海;31 |
申请人: |
上海光谱仪器有限公司 |
发明人: |
赵永强;李群英 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-06-11T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-14T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201820898348.0 |
公开号: |
CN208860744U |
代理机构: |
上海天翔知识产权代理有限公司 |
代理人: |
刘常宝 |
分类号: |
G01N21/73(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
201709 上海市青浦区白鹤镇工业园区4小区第4幢24号 |
主权项: |
1.一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置,其特征在于,所述气体控制装置包括: 等离子气控制系统,所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上; 辅助气控制系统,所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上; 雾化气控制系统,所述雾化气控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上; 控制器,所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。 2.根据权利要求1所述的一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置,其特征在于,所述等离子气控制系统包括第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀和若干个第一电磁阀,所述第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀分别依次设置在等离子气体的输气管路上,若干个第一电磁阀分别并联设置在等离子气体的输气管路上,所述控制器分别连接第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀和若干个第一电磁阀。 3.根据权利要求1所述的一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置,其特征在于,所述辅助气控制系统包括第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀和若干个第二电磁阀,所述第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀分别依次设置在辅助气体的输气管路上,若干个第二电磁阀分别并联设置在辅助气体的输气管路上,所述控制器分别连接第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀和若干个第二电磁阀。 4.根据权利要求1所述的一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置,其特征在于,所述雾化气控制系统包括第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀和若干个第三电磁阀,所述第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀分别依次设置在雾化气体的输气管路上,若干个第三电磁阀分别并联设置在雾化气体的输气管路上,所述控制器分别连接第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀和若干个第三电磁阀。 |
所属类别: |
实用新型 |