专利名称: |
缺陷检查方法 |
摘要: |
本发明提供一种缺陷检查方法。在此方法中,从通过在至少一个晶片上执行热扫描的至少一个光学检查工具获得的检查图像中获取多个候选缺陷图像,且从检查图像提取多个属性。创建包含用于对候选缺陷图像进行分类的多个决策树的随机森林分类器,其中决策树是以属性和候选缺陷图像的不同子集来建构。在运行期间从光学检查工具获取多个候选缺陷图像并将其应用于决策树,且根据其中过滤出扰乱图像的决策树的投票来将候选缺陷图像分类成扰乱图像和实际缺陷图像。对具有超过置信度值的投票的实际缺陷图像进行取样以用于微观审查。藉此,可改进扰乱过滤的效率。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
中国台湾;71 |
申请人: |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人: |
陈建辉;钟弘毅;洪肇廷;李正匡;陈晓萌;许登程 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-06-04T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-28T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810564614.0 |
公开号: |
CN109813717A |
代理机构: |
南京正联知识产权代理有限公司 |
代理人: |
顾伯兴 |
分类号: |
G01N21/88(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号 |
主权项: |
1.一种缺陷检查方法,适用于电子设备,其特征在于,包括: 从通过在至少一个晶片上执行热扫描的至少一个光学检查工具获得的多个检查图像中获取多个候选缺陷图像,且从所述检查图像提取多个属性; 创建包含用于对所述候选缺陷图像进行分类的多个决策树的随机森林分类器,其中所述决策树是以所述属性和所述候选缺陷图像的不同子集建构; 在运行期间从所述至少一个光学检查工具中的一个获取多个候选缺陷图像; 将所述候选缺陷图像应用于所述随机森林分类器中的所述决策树,根据所述决策树的投票将所述候选缺陷图像分类成扰乱图像和实际缺陷图像,且从所述候选缺陷图像过滤出所述扰乱图像;以及 对具有超过置信度值的所述投票的所述实际缺陷图像进行取样以用于微观审查。 |
所属类别: |
发明专利 |