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原文传递材料弯曲性能的检测方法

专利名称：	材料弯曲性能的检测方法
摘要：	本公开涉及一种材料弯曲性能的检测方法。该方法包括：在支撑层上生成目标厚度的待测材料薄膜，得到待测件；对支撑层进行刻蚀处理，获取支撑座，支撑座用于在待测件的一端或两端支撑待测件；在预设的检测环境中，对待测件的待测位置施加载荷；根据载荷以及待测位置的位移变化，确定待测件的弯曲模量。其中，目标宽度为1‑10mm、目标厚度为100‑5000nm，待测件未被支撑座覆盖部分的待测长度为0.1‑2mm。本公开实施例所提供的材料弯曲性能的检测方法，可以对尺寸为微米量级和纳米量级的待测件进行弯曲试验，获取待测件的弯曲模量，适用范围广泛、成本低。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	清华大学
发明人：	冯雪;李燕;方旭飞
专利状态：	有效
申请日期：	2019-03-18T00:00:00+0800
发布日期：	2019-05-28T00:00:00+0800
申请号：	CN201910204475.5
公开号：	CN109813613A
代理机构：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	刘新宇
分类号：	G01N3/20(2006.01);G;G01;G01N;G01N3
申请人地址：	100084 北京市海淀区清华园1号
主权项：	1.一种材料弯曲性能的检测方法，其特征在于，所述方法包括：在支撑层上生成目标厚度的待测材料薄膜，得到待测件，所述支撑层、所述待测材料薄膜的宽度和长度分别为目标宽度、目标长度；对所述支撑层进行刻蚀处理，获取支撑座，所述支撑座用于在所述待测件的一端或两端支撑所述待测件；在预设的检测环境中，对所述待测件的待测位置施加载荷；根据所述载荷以及所述待测位置的位移变化，确定所述待测件的弯曲模量，其中，所述目标宽度为1mm-10mm，所述目标厚度为100nm-5000nm，所述待测件未被所述支撑座覆盖部分的待测长度为0.1mm-2mm。 2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述支撑层进行刻蚀处理，获取支撑座，包括：以第一掩膜版为掩膜，对所述支撑层进行刻蚀处理，获得用于支撑待测件的两个支撑座，所述两个支撑座位于所述待测件的两端。 3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述支撑层进行刻蚀处理，获取支撑座，包括：以第二掩膜版为掩膜，对所述支撑层进行刻蚀处理，获得用于支撑所述待测件的一个支撑座，所述支撑座位于所述待测件的一端。 4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述待测件上生成保护层；对所述保护层进行刻蚀处理，形成用于保护所述待测件的保护部件，所述保护部件位于所述待测件的一端或两端、且与所述支撑座相对应的位置。 5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在预设的检测环境中，对所述待测件的待测位置施加载荷，包括：将带有支撑座和保护部件的待测件固定在纳米压痕仪中，通过所述纳米压痕仪为所述待测件提供预设的检测环境；控制所述纳米压痕仪的压头对所述待测件的待测位置施加载荷。 6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述载荷以及所述待测位置的位移变化，确定所述待测件的弯曲模量，包括：采用如下公式计算所述待测件的弯曲模量E，其中，F为所述载荷，h为所述待测位置的最大位移，a为所述目标宽度，b为所述目标厚度，l为所述待测长度，m为系数。 7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设的检测环境的温度为20℃-1000℃。 8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设的检测环境中所填充的气体包括氮气、氦气和空气中的任一种。 9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标宽度为2mm-10mm、所述目标厚度为100nm-1000nm，所述待测件未被所述支撑座覆盖部分的待测长度为0.5mm-2mm。
所属类别：	发明专利