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原文传递使用斜率数据的用于半导体衬底的检查方法及检查装置

专利名称：	使用斜率数据的用于半导体衬底的检查方法及检查装置
摘要：	提供了使用斜率数据的用于半导体衬底的检查方法及检查装置。检查方法包括通过使用检查装置（300）记录来自半导体衬底（110）的主表面（111）的检查区域（120）中的测量点的第一数据（810），其中检查区域（120）旋绕主表面（111）的中心点（105）且其中第一数据（810）包括关于主表面（111）在测量点处沿第一方向的斜率的信息，第一方向偏离与包含测量点且使其中心在中心点（105）的圆相切的方向不超过±60°。数据处理装置（400）分析第一数据（810）以获得主表面（111）上的在其处第一数据（810）满足预定准则的地方的位置数据（830）。通过数据接口单元（490）输出位置数据（830）。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	德国;DE
申请人：	英飞凌科技股份有限公司
发明人：	R.穆尔;N.西德尔
专利状态：	有效
申请日期：	2018-12-07T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-18T00:00:00+0800
申请号：	CN201811497035.5
公开号：	CN109900717A
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	高苇娟;申屠伟进
分类号：	G01N21/95(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-15号
主权项：	1.一种用于半导体衬底的检查方法，所述方法包括：通过使用检查装置（300），记录来自半导体衬底（110）的主表面（111）的检查区域（120）中的测量点的第一数据（810），其中检查区域（120）旋绕主表面（111）的中心点（105），并且其中第一数据（810）包括关于主表面（111）在测量点处沿第一方向的斜率的信息，所述第一方向偏离与包含相应测量点并且使其中心在中心点（105）的圆相切的方向不超过±60°；通过数据处理装置（400）分析第一数据（810），其中获得主表面（111）上的地方的位置数据（830），在所述地方处第一数据（810）满足预定准则；以及通过数据接口单元（490）输出位置数据（830）。 2.根据权利要求1所述的检查方法，进一步包括：从第一数据（810）获得第二数据（820），所述第二数据（820）描述沿如针对相应测量点所定义的第一方向的测量点处的斜率的改变，并且其中位置数据（830）标识斜率的改变的值超过预定阈值的地方。 3.根据权利要求1或2中任一项所述的检查方法，其中第一数据（810）包括关于主表面（111）在测量点处沿与包含所述测量点并且使其中心在中心点（105）的圆相切的方向的斜率的信息。 4.根据权利要求1至3中任一项所述的检查方法，其中第一数据（810）包括数量为n的数据子集，并且针对检查区域（120）中的n个检查视场（125）中的一个中的测量点，每个数据子集包括关于主表面（111）在测量点处在与到中心点（105）并且通过检查视场（125）的一条径向线正交的方向上的斜率的信息，其中n表示大于2的整数。 5.根据权利要求1至4中任一项所述的检查方法，其中记录第一数据（810）包括记录地形数据（815）和将地形数据（815）转换成斜率数据，其中转换地形数据（815）包括数字滤波方法。 6.根据权利要求1至5中任一项所述的检查方法，其中检查装置（300）包括偏折装置（600），所述偏折装置（600）包括限定发光线（611）的辐射源（610）以及检测设备（622），所述检测设备（622）被布置成使得检测设备（622）接收发光线（611）的反射，其中反射包括被近似定向在关于中心点（105）的径向方向上的条纹反射（612）。 7.根据权利要求6所述的检查方法，其中第一数据（810）包括数量为n的数据子集，并且针对检查区域（120）中的n个检查视场（125）中的一个中的测量点，每个数据子集包括关于主表面（111）在测量点处在与到中心点（105）并且通过检查视场（125）的一条径向线正交的方向上的斜率的信息，其中n表示大于2的整数，并且其中为了获得数据子集，移动发光线（611）以使得条纹反射（612）基本上沿与那一条径向线正交的方向移动。 8.根据权利要求1至7中任一项所述的检查方法，其中半导体衬底（110）被布置在衬底载体（190）的载体表面（191）的第一表面部分（1911）上，检查区域（120）延伸超出半导体衬底（110）的横向外表面（113），并且第一数据（810）包括关于载体表面（191）的第二表面部分（1912）在测量点处的斜率的信息，其中第二表面部分（1912）横向邻接半导体衬底（110）。 9.根据权利要求1至8中任一项所述的检查方法，进一步包括：记录从由辅助辐射源（392）发射并在主表面（111）处反射或穿过主表面（111）的辐射获得的辅助数据（860），其中分析第一数据（810）包括分析辅助数据（860）。 10.一种检查装置，包括：支撑设备（312），其被适配成临时固定包括半导体衬底（110）的DUT（100）；测量设备（320），其被适配用于记录来自可布置在支撑设备（312）上的DUT（100）的DUT表面（101）的检查视场（125）中的测量点的第一数据（810），其中第一数据（810）包括关于DUT表面（101）在测量点处沿与包含相应测量点并且使其中心在DUT（100）的中心点（105）的圆相切的方向的斜率的信息；定位设备（330），其被配置成促进测量设备（320）和支撑设备（312）之间的旋转相对运动；以及控制设备（340），其与定位设备（330）信号连接并且被配置成控制测量设备（320）和支撑设备（312）之间的相对运动以使得检查视场（125）围绕中心点（105）移动。 11.根据权利要求10所述的检查装置，其中定位设备（330）包括旋转电机驱动器（335），其与支撑设备（312）机械连接，与控制设备（340）信号连接，并且被配置成围绕通过中心点（105）的旋转轴（106）旋转支撑设备（312）。 12.根据权利要求10或11中任一项所述的检查装置，其中测量设备（320）被配置成记录来自检查视场（125）的地形数据（815）。 13.根据权利要求10至12中任一项所述的检查装置，进一步包括：辅助检查设备（390），其被配置成记录由辅助辐射源（392）发射并在可布置在支撑设备（312）上的DUT（100）的DUT表面（101）处反射或穿过所述DUT表面（101）的辐射的强度。 14.一种用于半导体衬底的检查系统，包括：如权利要求10至13中任一项中要求保护的检查装置（300）；数据处理装置（400），其被配置成分析通过检查装置（300）获得的第一数据（810）以获得DUT表面（101）上的地方的位置数据（830），在所述地方处第一数据（810）满足预定准则；以及数据接口单元（490），其被配置成输出位置数据（830）。 15.一种偏折装置（600），包括：辐射源（610），其被适配成限定发光线（611）；检测组件（620），其包括支撑设备（312），其被适配用于临时固定包括半导体衬底（110）的DUT（100），以及检测设备（622），其被适配成检测由辐射源（610）发射并在可布置在支撑设备（312）上的DUT（100）的DUT表面（101）处反射的辐射；以及定位设备（330），其被机械地耦合到辐射源（610）和检测组件（620）中的至少一个，并且能够引起发光线（611）和检测组件（620）之间的相对运动。 16.根据权利要求15所述的偏折装置，其中检测组件（620）和辐射源（610）被布置成使得检测设备（622）接收在检查视场（125）中从DUT表面（101）反射的并且被基本上定向在关于DUT表面（101）的中心点（105）的径向方向上的发光线（611）的条纹反射（612）。 17.根据权利要求16所述的偏折装置，其中定位设备（330）被配置成促进条纹反射（612）在基本上与径向方向正交的方向上通过检查视场（125）的移动。 18.一种检查装置（300），包括：根据权利要求15至17中任一项所述的偏折装置（600）；以及控制设备（340），其与定位设备（330）信号连接，并且被配置成控制一侧的支撑设备（312）与另一侧的发光线（611）和检测设备（622）之间的相对运动以使得可沿围绕中心点（105）的轨道引导检查视场（125）。 19.根据权利要求18所述的检查装置（300），其中偏折装置（600）被布置成使得检查视场（125）延伸超出半导体衬底（110）的横向外表面（113）。 20.一种用于半导体衬底的检查系统，包括：如权利要求18或19中任一项中要求保护的检查装置（300）；数据处理装置（400），其被配置成处理通过检查装置（300）获得的第一数据（810）以获得DUT表面（101）上的地方的位置数据（830），在所述地方处第一数据（810）满足预定准则；以及数据接口单元（490），其被配置成输出位置数据（830）。
所属类别：	发明专利