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一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法
| 专利名称： | 一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，在光腔衰荡高反射光学元件反射率扫描成像装置中加入聚焦透镜使入射到被测高反射光学元件表面的探测激光束尺寸减小，从而实现提高成像分辨率的目的。本方法保留了传统光腔衰荡高反射率分布成像系统高灵敏度的优点，并极大地提高了成像空间分辨率，使高反射光学元件微小尺度缺陷分布的高分辨成像成为可行。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 电子科技大学 |
| 发明人： | 李斌成;王静 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 1900-01-20T00:00:00+0805 |
| 发布日期： | 1900-01-20T12:00:00+0805 |
| 申请号： | CN201911352648.4 |
| 公开号： | CN111141707A |
| 分类号： | G01N21/55;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/55 |
| 申请人地址： | 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |
| 主权项： | 1.一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，其特征在于：由平面耦合腔镜、凹面高反射腔镜和被测平面高反射光学元件组成折叠衰荡光腔，激光器输出的激光束经模式匹配透镜组整形后从耦合光腔进入衰荡光腔，通过探测从凹面高反射腔镜输出的光腔衰荡信号实现对平面高反射光学元件的反射率进行测量；将一高增透透镜插入衰荡光腔中聚焦激光束于被测平面高反射光学元件表面，降低激光束在被测高反射光学元件表面的光斑尺寸，并将被测平面高反射光学元件放置于二维位移台上进行位置二维扫描，实现被测高反射光学元件反射率的高分辨二维扫描成像。 2.根据权利要求1所述的一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，其特征在于：插入光腔中的高增透透镜在激光波长的透过率高于99.9％。 3.根据权利要求1所述的一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，其特征在于：插入光腔中的高增透透镜的焦距根据成像分辨率要求确定，可以从0.001米到1米范围。 4.根据权利要求1所述的一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，其特征在于：插入光腔中的高增透透镜位置由其焦距确定，调节透镜位置使激光器聚焦点位于被测高反射光学元件表面。 5.根据权利要求1所述的一种高反射光学元件反射率分布高分辨成像测量的方法，其特征在于：激光器采用连续输出激光器，其输出强度由函数发生器进行方波调制，光腔衰荡信号在方波调制的下降沿探测。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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