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光学元件高反射率测量系统和测量方法
| 专利名称： | 光学元件高反射率测量系统和测量方法 |
| 摘要： | 一种光学元件高反射率测量系统和测量方法，系统包括激光光源、光电探测器、示波器、信号发生器、第一光纤、光纤隔离器、第二光纤、第三光纤、第一光纤耦合器、第四光纤、样品台、第一姿态调节机构、第二姿态调节机构、第五光纤、第二光纤耦合器和第六光纤，与现有普遍采用的基于高反射镜构成的谐振腔高反射率测量技术相比，本发明的测量灵敏度提高1000多倍，测量系统具有结构紧凑、布局灵活、抗干扰能力强、测量简便的特点。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 发明人： | 邵建达;刘世杰;王圣浩 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810972476.X |
| 公开号： | CN109100330A |
| 代理机构： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 |
| 代理人： | 张宁展 |
| 分类号： | G01N21/55(2014.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/55 |
| 申请人地址： | 201800 上海市嘉定区清河路390号 |
| 主权项： | 1.一种光学元件高反射率的测量系统，包括激光光源(1)、光电探测器(5)、示波器(6)、信号发生器(7)，其特征在于还有第一光纤(9)、光纤隔离器(10)、第二光纤(11)、第三光纤(12)、第一光纤耦合器(13)、第四光纤(14)、样品台(15)、第一姿态调节机构(16)、第二姿态调节机构(17)、第五光纤(18)、第二光纤耦合器(19)和第六光纤(20)，所述的样品台(15)供待测的高反射光学元件(8)设置，所述激光光源(1)的输出端通过所述第一光纤(9)与所述光纤隔离器(10)的输入端相连接，所述光纤隔离器(10)的输出端通过所述第二光纤(11)与所述第一光纤耦合器(13)的第一输入端相连，该第一光纤耦合器(13)输出的激光经过所述第四光纤(14)的传输后照射在所述的待测的高反射光学元件(8)上，所述的高反射光学元件(8)反射的激光经过所述第五光纤(18)的传输后进入所述第二光纤耦合器(19)的输入端，所述第二光纤耦合器(19)的第一输出端与所述第一光纤耦合器(13)的第二输入端相连接，所述的第二光纤耦合器(19)的第二输出端与所述的光电探测器(5)的输入端相连，所述的光电探测器(5)的输出端与所述的示波器(6)的第二输入端相连，所述的示波器(6)的第一输入端与所述的信号发生器(7)的第二输出端相连，所述的信号发生器(7)的第一输出端与所述的激光光源(1)的控制端相连，所述的第一光纤耦合器(13)、第四光纤(14)、第五光纤(18)、第二光纤耦合器(19)和第三光纤(12)构成光纤环形谐振腔。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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