专利名称: |
基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置 |
摘要: |
本发明公开了一种基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置,装置由x‑z平面光路与y‑z平面光路组成,且两部分的平面光路共焦点、互相垂直;将待测样品置于两部分平面光路的共聚焦的位置,所述x‑z平面光路作为太赫兹光谱检测系统,所述y‑z平面光路作为太赫兹成像检测系统;所述太赫兹成像检测系统对待测样品进行反射式快速扫描成像,得到待测样品的图像信息;根据该图像中所有像素点的强度信息,选择图像中强度信息的异常值作为感兴趣区域,将感兴趣区域作为光谱测量的待测位置点;利用x‑y扫描平台将待测位置点移置共焦点处,暂停太赫兹成像检测系统,启动太赫兹光谱检测系统,获得待测位置点的太赫兹光谱信息。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
天津大学 |
发明人: |
王与烨;徐德刚;姜智南;姚建铨 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T08:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T15:00:00+0805 |
申请号: |
CN202010016975.9 |
公开号: |
CN111157487A |
代理机构: |
天津市北洋有限责任专利代理事务所 |
代理人: |
李林娟 |
分类号: |
G01N21/3586;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/3586 |
申请人地址: |
300072 天津市南开区卫津路92号 |
主权项: |
1.一种基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置,其特征在于,所述检测装置由x-z平面光路与y-z平面光路组成,且两部分的平面光路共焦点、互相垂直; 将待测样品置于两部分平面光路的共聚焦的位置,所述x-z平面光路作为太赫兹光谱检测系统,所述y-z平面光路作为太赫兹成像检测系统; 所述太赫兹成像检测系统对待测样品进行反射式快速扫描成像,得到待测样品的图像信息;根据该图像中所有像素点的强度信息,选择图像中强度信息的异常值作为感兴趣区域,将感兴趣区域作为光谱测量的待测位置点; 利用x-y扫描平台将待测位置点移置共焦点处,暂停太赫兹成像检测系统,启动太赫兹光谱检测系统,获得待测位置点的太赫兹光谱信息。 2.根据权利要求1所述的一种基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置,其特征在于,所述装置还包括:根据主观意愿选择某一部分区域作为光谱测量的待测位置点。 3.根据权利要求1所述的一种基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置,其特征在于,所述太赫兹光谱检测系统包括: 脉冲式太赫兹波辐射源为太赫兹光电导辐射源;经第一太赫兹离轴抛面镜,太赫兹波由发散光变为平行光;经第二太赫兹离轴抛面镜,太赫兹波由平行光变为汇聚光,且以30度方向聚焦入射到待测样品的表面; 反射信号经第三太赫兹离轴抛面镜后,变为平行光传输;经过第四太赫兹离轴抛面镜后,太赫兹波由平行光变为汇聚光,其能量由脉冲式太赫兹波探测器收集,脉冲式太赫兹波探测器检测的待测样品的信息输入到太赫兹光谱分析系统中,得到待测样品的光谱信息。 4.根据权利要求1所述的一种基于双光路的太赫兹光谱与成像快速同步检测装置,其特征在于,所述太赫兹成像检测系统包括: 连续太赫兹辐射源辐射的连续太赫兹波,经斩波器调制和第一太赫兹平面镜反射后,入射到太赫兹分光镜的表面,太赫兹分光镜将太赫兹波分成两路,其中一路反射光入射到第一太赫兹Golay探测器中,作为参考信号;另一路透射光用于反射式扫描成像; 太赫兹波经第五太赫兹离轴抛面镜后,太赫兹波由平行光变为汇聚光,且以30度方向聚焦入射到待测样品的表面;太赫兹波经待测样品表面反射后入射至第六离轴抛物面镜上,太赫兹波由发散光变为平行光传输,经过第七太赫兹离轴抛面镜后,太赫兹波由平行光变为汇聚光,其能量由第二太赫兹Golay探测器收集,输入到成像分析系统中,得到待测样品的图像信息。 |
所属类别: |
发明专利 |