专利名称: |
高凸榫基础重力挡土墙及其施工方法 |
摘要: |
本申请提供一种高凸榫基础重力挡土墙及其施工方法,涉及建筑施工技术。高凸榫基础重力挡土墙包括:多个预制件,用于拼接形成墙体,所述墙体底面具有第一限位结构,所述预制件包括纵截面呈L型的第一预制块;多个基础件,用于拼接形成基础以承载所述墙体,所述基础顶面具有用于和所述第一限位结构配合以限制所述墙体和所述基础相对位移的第二限位结构,所述基础具有凸出于所述基础底面的高凸榫,所述基础底面用于贴合于地基表面,所述高凸榫用于插入所述地基。这种高凸榫基础重力挡土墙由于墙体和基础在拼接完成之后便已经具有很高的结构强度,可以大大缩短工期。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
中铁第四勘察设计院集团有限公司 |
发明人: |
孙红林;廖烽凯;林志果;张梦;郭建湖;王祥;陈远洪;李巍;姚洪锡;马克丰;刘国;庞吉鸿 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T00:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T22:00:00+0805 |
申请号: |
CN202010113878.1 |
公开号: |
CN111188360A |
代理机构: |
北京派特恩知识产权代理有限公司 |
代理人: |
胡亮;张颖玲 |
分类号: |
E02D29/02;E;E02;E02D;E02D29;E02D29/02 |
申请人地址: |
430060 湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号 |
主权项: |
1.高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,包括: 多个预制件,用于拼接形成墙体,所述墙体底面具有第一限位结构,所述预制件包括纵截面呈L型的第一预制块; 多个基础件,用于拼接形成基础以承载所述墙体,所述基础顶面具有用于和所述第一限位结构配合以限制所述墙体和所述基础相对位移的第二限位结构,所述基础具有凸出于所述基础底面的高凸榫,所述基础底面用于贴合于地基表面,所述高凸榫用于插入所述地基。 2.如权利要求1所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述高凸榫的高度不低于所述基础高度的0.3倍,所述高凸榫的宽度为所述基础宽度的1/3~1/2,所述高凸榫的长度不小于所述墙体的长度。 3.如权利要求2所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述高凸榫为底面为梯形的立方体形,所述梯形的上底位于所述高凸榫的端面,所述梯形的第一侧壁和第二侧壁的坡比均为1:0.2~0.5。 4.如权利要求1所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述基础件包括纵截面呈L型的第一基础块,所述第一基础块包括一体成型的第一底座和第一凸块,所述第一底座和所述第一凸块相邻设置,所述第一底座的底面与所述第一凸块的底面平齐并连为一体且均设置有所述高凸榫,所述第一底座的顶面低于所述第一凸块的顶面且所述第一底座的顶面和所述第一凸块的顶面均设置有所述第二限位结构,所述第一底座的顶面于所述第一凸块的侧面相邻,所述第一凸块的侧面于所述第一底座的顶面形成L型凹槽。 5.如权利要求4所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述第一凸块的长度和所述第一底座的长度相同,所述第一凸块的宽度和所述第一底座的宽度相同,所述第一凸块的高度为所述第一底座的高度的2倍。 6.如权利要求5所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述基础件还包括纵截面呈矩形的第二基础块,所述第二基础块的长度和所述第一凸块的长度相同,所述第二基础块的高度和所述第二底座的高度相同;所述第二基础块用于设置在相邻的所述第一基础块之间,所述第二基础块的顶面设置有所述第二限位结构,所述第二基础块的底面设置有所述高凸榫。 7.如权利要求5所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述第一预制块包括一体成型的第二底座和第二凸块,所述第二底座与所述第二凸块相邻设置,所述第二底座的底面与所述第二凸块的底面平齐并连为一体且均设置有所述第一限位结构,所述第二底座的顶面低于所述第二凸块的顶面,所述第二底座的顶面与所述第二凸块的第一侧面相邻,所述第一侧面与所述第二底座的顶面形成L型凹槽;所述第二凸块具有与所述第一侧面相对的第二侧面,所述第二侧面与所述第二凸块的底面形成L型拐角;部分所述第一预制块的所述L型拐角用于放置于另一个第一预制块的L型凹槽内以拼接形成所述墙体的至少部分,另外部分所述第一预制块的所述L型拐角用于放置于所述基础件的L型凹槽内以连接所述基础件。 8.如权利要求7所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述第二底座的长度和所述第一底座的长度相同,所述第二底座的高度和所述第一底座的高度相同,所述第二凸块的长度和所述第一凸块的长度相同,所述第二凸块的高度和所述第一凸块的高度相同。 9.如权利要求1所述的高凸榫基础重力挡土墙,其特征在于,所述墙体的侧面具有绿化槽,所述绿化槽设置于至少部分所述预制件上,所述绿化槽伸出于所述预制件。 10.高凸榫基础重力挡土墙的施工方法,其特征在于,包括如下步骤: 制作可以拼接形成底面具有第一限位结构的墙体的多个预制件; 制作可以拼接形成基础以承载所述墙体的多个基础件;并且拼接形成的所述基础顶面具有用于和所述第一限位结构配合以限制所述基础和所述墙体相对位移的第二限位结构;并且拼接形成的基础底面具有用于插入所述地基以限制所述基础和所述地基相对位移的高凸榫; 在预设位置开挖地基,在所述地基上开挖拉槽; 将所述多个基础件搭建在所述地基上形成所述基础,并且使基础底面的所述高凸榫插入至所述地基; 将所述多个预制件层层搭建在所述基础上形成所述墙体,并且使所述第一限位结构和所述第二限位结构配合。 |
所属类别: |
发明专利 |