专利名称: |
一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构 |
摘要: |
本发明涉及一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,包括圆管胞元及基板,基板包括上基板、下基板和侧向圆弧基板,上基板、下基板和侧向圆弧基板首尾相接,围成具有负泊松比特性的封闭结构,侧向圆弧基板通过迭代方式确定其形状;圆管胞元置于基板中,根据确定n1的个数;在基板中心区域水平布置圆管胞元,在该层上下,分别按照等差数列方式逐层递增布置圆管胞元,公差为1,直至与上基板、下基板贴合为止;与圆管胞元的接触区域均相互固定连接;所有圆管胞元与侧向圆弧基板均不接触。本发明结构具备零泊松比或负泊松比效应,单个结构不装配即可得到层级的压溃力,便于降低冲击过载。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
北京空间机电研究所 |
发明人: |
武士轻;梁浩;王永滨;王立武;吕智慧;唐明章;贾贺;龙龙;郝世杰;熊志伟 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T20:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T17:00:00+0805 |
申请号: |
CN201911329303.7 |
公开号: |
CN111017270A |
代理机构: |
中国航天科技专利中心 |
代理人: |
任林冲 |
分类号: |
B64G1/62;B;B64;B64G;B64G1;B64G1/62 |
申请人地址: |
100076 北京市丰台区南大红门路1号9201信箱5分箱 |
主权项: |
1.一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于,包括圆管胞元及基板, 基板包括上基板、下基板和侧向圆弧基板,上基板、下基板和侧向圆弧基板首尾相接,围成具有负泊松比特性的封闭结构,侧向圆弧基板通过迭代方式确定其形状; 圆管胞元置于基板中,根据确定n1的个数,其中n1为基板中心区域水平布置圆管胞元的数量,L1侧向圆弧基板的最小间距;D为圆管胞元的直径; 在基板中心区域水平布置圆管胞元,在该层上下,分别按照等差数列方式逐层递增布置圆管胞元,公差为1,直至与上基板、下基板贴合为止;与圆管胞元的接触区域均相互固定连接;所有圆管胞元与侧向圆弧基板均不接触。 2.根据权利要求1所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:侧向圆弧基板厚度与上基板、下基板一致。 3.根据权利要求2所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:侧向圆弧基板厚度为0.1-0.3mm。 4.根据权利要求1所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:侧向圆弧基板圆弧角20-40°。 5.根据权利要求1所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:基板的压溃平台力为3000-5000N。 6.根据权利要求1所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:圆管胞元为铝合金或钛合金,圆管胞元厚度为0.03-0.05mm。 7.根据权利要求1所述的一种圆管填充的非正泊松比缓冲吸能结构,其特征在于:力作用在上基板上,在压溃过程中,载荷逐渐从上基板传递圆管包圆并依次向下传递,中心区域圆管首先被压溃,再上下依次压馈,压馈过程中侧向基板与圆管胞元不接触,在压溃过程中,逐渐压溃数量不同圆管胞元,从而出现多个阶梯平台力,进而得到不同的缓冲过载。 |
所属类别: |
发明专利 |